[发明专利]一种无机光刻胶组合物图案化的方法有效
申请号: | 201810037160.1 | 申请日: | 2018-01-15 |
公开(公告)号: | CN108089404B | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 段宣明;金峰;郑美玲;董贤子 | 申请(专利权)人: | 中国科学院理化技术研究所 |
主分类号: | G03F7/075 | 分类号: | G03F7/075;G03F7/20 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 赵晓丹 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 无机 光刻 组合 图案 方法 | ||
1.一种无机光刻胶组合物图案化的方法,其特征在于,采用光源对光刻胶组合物进行图案化;其中,
所述光源为波长为250~2500nm的光;所述无机光刻胶组合物包括氢倍半硅氧烷;
所述光源由激光提供;
所述激光为:脉冲宽度是10~300飞秒,重复频率是1000Hz~150MHz的飞秒激光;脉冲宽度是0.3~800皮秒,重复频率是25KHz~150MHz的皮秒激光;或者脉冲宽度是0.8~80纳秒、重复频率是1Hz~100kHz的纳秒激光。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光源选自波长范围为250≤λ400nm的紫外光、波长范围为400≤λ780nm的可见光、和波长范围为780≤λ2500nm的近红外光中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述无机光刻胶组合物还包括光引发剂和溶剂;其中,按质量百分比计,所述氢倍半硅氧烷的添加量占无机光刻胶组合物总量的1~10wt%;所述光引发剂的添加量占无机光刻胶组合物总量的0.01~5wt%;所述溶剂的添加量占无机光刻胶组合物总量的85~98.9wt%。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述光引发剂包括光致产酸剂。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述光致产酸剂选自含有三氟甲磺酸三苯基硫的苯基硫类、含有二苯基碘鎓六氟磷酸盐的鎓盐类和含有双(对甲苯磺酰基)重氮甲烷的重氮甲烷类光致产酸剂中的一种或多种。
6.根据权利要求3或4所述的方法,其特征在于,所述光引发剂包括自由基光引发剂。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述自由基光引发剂选自含有偶苯酰的酮类、含有苯甲酰甲酸酯的酯类和含有异丙基硫杂蒽酮的蒽酮类的自由基光引发剂中的一种或多种。
8.一种无机光刻胶组合物,其特征在于,所述无机光刻胶组合物包括氢倍半硅氧烷、光引发剂和溶剂;所述光引发剂为光致产酸剂和/或自由基光引发剂。
9.一种如权利要求8所述的无机光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:在暗室中将氢倍半硅氧烷、光引发剂和溶剂按比例搅拌混合均匀,过滤后得到无机光刻胶组合物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院理化技术研究所,未经中国科学院理化技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810037160.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于GPP工艺的光刻胶、制备方法及其光刻工艺
- 下一篇:硬掩模用组合物