[发明专利]表面等离共振效应的太赫兹成像对比度增强剂及制备方法

权利要求书

1.一种具有表面等离共振效应的太赫兹成像对比度增强剂的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

制备具有表面等离共振效应的无机纳米颗粒，并控制所述无机纳米颗粒的共振吸收峰在650nm～1300nm范围内；

对所述无机纳米颗粒进行太赫兹反射测试，以确定所述无机纳米颗粒的具有期待的太赫兹反射增强效果的浓度范围；

对所述无机纳米颗粒进行表面修饰处理，以提高其稳定性和生物亲和性；

将与目标活体的待检测区域对应的靶向官能团结合至经表面修饰处理的无机纳米颗粒，制得具有表面等离共振效应的太赫兹成像对比度增强剂。

2.根据权利要求1所述的具有表面等离共振效应的太赫兹成像对比度增强剂的制备方法，其特征在于，所述无机纳米颗粒为纳米金颗粒、纳米银颗粒、纳米金银复合颗粒、纳米四氧化三铁颗粒、纳米氧化钆颗粒中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的具有表面等离共振效应的太赫兹成像对比度增强剂的制备方法，其特征在于，所述制备无机纳米颗粒的步骤将无机纳米颗粒的共振吸收峰控制在750nm～850nm范围内。

4.根据权利要求1所述的具有表面等离共振效应的太赫兹成像对比度增强剂的制备方法，其特征在于，所述制备无机纳米颗粒的步骤还包括控制所述无机纳米颗粒的形貌为棒状或球状，并且将棒状无机纳米颗粒的长度控制为30nm～100nm，且长径比为1.5～5：1；将球状无机纳米颗粒的粒径控制为3nm～60nm。

5.根据权利要求1所述的具有表面等离共振效应的太赫兹成像对比度增强剂的制备方法，其特征在于，所述表面修饰处理的步骤包括利用硅源水解产生带正电荷的硅离子与经过碱处理表面带负电的无机纳米颗粒静电结合，实现在无机纳米颗粒表面修饰一层二氧化硅颗粒，其中，所述静电结合的溶液环境的pH调节为10～11，无机纳米颗粒与硅源的配比为3.5～10：1。

6.一种具有表面等离共振效应的太赫兹成像对比度增强剂，其特征在于，所述太赫兹成像对比度增强剂包括无机纳米颗粒、表面修饰官能团和靶向官能团，其中，所述无机纳米颗粒具有在650nm～1300nm范围内的共振吸收峰；所述表面修饰官能团结合在无机纳米颗粒表面；所述靶向官能团与无机纳米颗粒结合并能够主动向目标活体的待检测区域移动。

7.根据权利要求6所述的具有表面等离共振效应的太赫兹成像对比度增强剂，其特征在于，所述无机纳米颗粒为纳米金颗粒、纳米银颗粒、纳米金银复合颗粒、纳米四氧化三铁颗粒、纳米氧化钆颗粒中的一种或多种。

8.根据权利要求6所述的具有表面等离共振效应的太赫兹成像对比度增强剂，其特征在于，所述无机纳米颗粒具有在750nm～850nm范围内的共振吸收峰。

9.根据权利要求6所述的具有表面等离共振效应的太赫兹成像对比度增强剂，其特征在于，所述无机纳米颗粒的形貌为棒状或球状，并且将棒状无机纳米颗粒的长度控制为30nm～100nm，且长径比为1.5～5：1；将球状无机纳米颗粒的粒径控制为3nm～60nm。