[发明专利]校正高功率激光器M2测量系统热形变的装置及方法

权利要求书

1.一种校正高功率激光器M²测量系统热形变的装置，其特征在于：包括标准平晶(1)、功率衰减平行平板(2)、光功率计(3)、第一楔板反射镜(4)、第二楔板反射镜(5)、第一收光器(6)、分光镜(7)、波前探测器(8)和动态干涉仪(9)；沿光路依次设置标准平晶(1)、功率衰减平行平板(2)、第一楔板反射镜(4)、第二楔板反射镜(5)、分光镜(7)、波前探测器(8)和动态干涉仪(9)；光功率计(3)设置于功率衰减平行平板(2)的反射光路上；第一楔板反射镜(4)设置于功率衰减平行平板(2)的透射光路上，第二楔板反射镜(5)设置于第一楔板反射镜(4)的反射光路上，第一收光器(6)设置于第一楔板反射镜(4)的透射光路上；分光镜(7)设置于第二楔板反射镜(5)的反射光路上；经分光镜(7)滤光，波前探测器(8)设置于分光镜(7)的透射光路上，动态干涉仪(9)设置于分光镜(7)的反射光路上。

2.根据权利要求1所述的校正高功率激光器M²测量系统热形变的装置，其特征在于：被测激光的波段与动态干涉仪(9)的光源波段不重合；标准平晶(1)的楔角为1度；两面所镀膜系相同，在被测激光波段增透，透过率达99.99％，在动态干涉仪(9)的光源波段高反，反射率达50％以上；标准平晶(1)靠近测试激光源的一面垂直被测激光光束放置。

3.根据权利要求1所述的校正高功率激光器M²测量系统热形变的装置，其特征在于：所述功率衰减平行平板(2)按照与标准平晶(1)前表面成θ度倾角设置于其透射光路上；功率衰减平行平板(2)两面均镀膜，前表面镀有高反膜，在被测激光波段高反，反射率达99.99％，在动态干涉仪(9)光源波段低反，反射率低于1％；后表面镀有增透膜，在被测激光波段和动态干涉仪(9)的光源波段均低反，反射率低于0.1％。

4.根据权利要求1所述的校正高功率激光器M²测量系统热形变的装置，其特征在于：第一楔板反射镜(4)的楔角为6.5度，其前表面按照与标准平晶(1)的前表面成45度倾角设置于功率衰减平行平板(2)的透射光路上；第一楔板反射镜(4)的前表面镀膜、后表面不镀膜，在测试激光波段低反，反射率低于4％，在动态干涉仪(9)的光源波段高反，反射率高于90％；第二楔板反射镜(5)的楔角为6.5度，第二楔板反射镜(5)的前表面按照与第一楔板反射镜(4)的前表面成90度设置于其反射光路上，使经第一楔板反射镜(4)前的光路和经第二楔板反射镜(5)后的光路平行；第二楔板反射镜(5)前表面所镀膜系与第一楔板反射镜(4)的前表面相同，后表面不镀膜。

5.根据权利要求1所述的校正高功率激光器M²测量系统热形变的装置，其特征在于：分光镜(7)两面均镀膜，在被测激光波段增透，透过率达99.99％，在动态干涉仪(9)的光源波段高反，反射率达99.99％。

6.根据权利要求3所述的校正高功率激光器M²测量系统热形变的装置，其特征在于：上述功率衰减平行平板(2)与标准平晶(1)两者的中心距离最小值d的计算方法如下：

设标准平晶(1)的口径为A mm，材料折射率为n，功率衰减平行平板(2)的表面与标准平晶(1)的前表面成θ角设置，θ为不大于50°的锐角；

公式

7.根据权利要求1所述的校正高功率激光器M²测量系统热形变的装置，其特征在于：还包括第二收光器(10)，第二收光器(10)设置于标准平晶(1)的后表面反射光经过前表面后的透射光路上。