[发明专利]一种在聚酰亚胺薄膜表面制作微纳结构的方法在审
| 申请号： | 201810044549.9 | 申请日： | 2018-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN108249390A | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 高世雄 | 申请（专利权）人： | 高世雄 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘奇 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市金*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微纳结构 聚酰亚胺薄膜 母版 金属牺牲层 化学腐蚀法 分离金属 化学腐蚀 机械分离 聚酰亚胺 生产效率 使用寿命 生长 传统的 牺牲层 制备 制作 损伤 | ||
1.一种在聚酰亚胺薄膜表面制作微纳结构的方法，包括以下步骤：
(1)提供具有微纳结构的母版；
(2)在所述母版具有微纳结构的一面生长金属牺牲层；
(3)分离所述母版和金属牺牲层，在金属牺牲层生长有微纳结构的一面涂覆聚酰亚胺溶液，固化，在所述金属牺牲层生长有微纳结构的一面形成聚酰亚胺薄膜；
(4)采用化学腐蚀法分离所述聚酰亚胺薄膜和金属牺牲层，得到表面具有微纳结构的聚酰亚胺薄膜。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(2)中金属牺牲层包括金属氧化层和薄金属层，其中，与所述母版具有微纳结构的一面接触的为金属氧化层；所述金属氧化层的厚度为10～20nm；所述薄金属层的厚度为20～30μm。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述步骤(2)中生长金属牺牲层的方法，包括以下步骤：
采用电化学方法在所述母版具有微纳结构的一面生长金属氧化层；
采用电铸法在所述金属氧化层的表面生长薄金属层。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述电化学方法中所采用的钝化液为碳酸钠、磷酸三钠和水的混合物，所述碳酸钠、磷酸三钠的质量和水的体积比为10g：(45～55)g：(1.8～2.2)L。
5.根据权利要求3或4所述的方法，其特征在于，所述电化学方法中所施加的电流为5.5～6.5A；电流的施加时间为13～17s。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(3)中分离所述母版和金属牺牲层时采用加压水流。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(3)中聚酰亚胺溶液的质量浓度为20～60％。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(3)中在金属牺牲层生长有微纳结构的一面涂覆聚酰亚胺溶液后形成的聚酰亚胺湿膜的厚度为100～8000nm。
9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(3)中固化时采用热处理，所述热处理的程序依次为18～22℃下保温55～65s；90～110℃下保温110～130s；140～160℃下保温290～310s；270～290℃下保温490～510s；340～360℃下保温490～510s；410～430℃下保温590～610s。
10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(4)中化学腐蚀法所采用的试剂为酸性溶液。
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