[发明专利]一种应用像方远心光路的中波红外目标模拟系统有效

专利信息
申请号: 201810045425.2 申请日: 2018-01-17
公开(公告)号: CN108106494B 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 张树青;王治乐;吴根水;赵松庆;屠宁;王庆晨 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学;中国空空导弹研究院
主分类号: G02B13/22 分类号: G02B13/22;F41G1/36;G02B1/00
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 岳昕
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 红外目标 红外仿真目标 像方远心光路 光斑 探测 物像 待测目标 干扰目标 模拟系统 目标位置 冷光阑 冷光线 目标源 无穷远 探测器 鬼像 放大 目标模拟系统 背景成像 仿真领域 仿真目标 覆盖目标 探测系统 影响探测 原路返回 辐射 耦合 扩束 反射 应用
【权利要求书】:

1.一种应用像方远心光路的中波红外目标模拟系统,其特征在于,该目标模拟系统,用于生成目标位置无穷远的红外仿真目标,还用于使红外目标探测器(100)中的冷光阑(102)辐射的冷光线经目标源反射后原路返回,在红外目标探测器(100)的探测面(101)上形成放大光斑,且使目标物像以放大光斑为背景成像于探测面(101)上,以消除鬼像对目标物像的影响;

其中,目标源包括干扰目标源和待测目标源;

红外仿真目标的形成过程为:由干扰目标源和待测目标源采用像方远心光路耦合后,又进行扩束,从而生成目标位置无穷远的红外仿真目标。

2.根据权利要求1所述的一种应用像方远心光路的中波红外目标模拟系统,其特征在于,该目标模拟系统包括无焦扩束系统(200)、目标准直物镜(400)、干扰准直物镜(300)、耦合平板(600)和两个红外发射电阻阵模块(500);

其中,一个红外发射电阻阵模块(500)作为干扰目标源,另一个红外发射电阻阵模块(500)作为待测目标源;

所述目标模拟系统,用于生成目标位置无穷远的红外仿真目标的具体过程为:

干扰目标源发射的红外光经干扰准直物镜(300)透射后,入射到耦合平板(600),并在其表面发生反射;

待测目标源发射的红外光经目标准直物镜(400)透射后,入射到耦合平板(600),并与在耦合平板(600)上发生反射的红外光进行耦合,耦合后的红外光经无焦扩束系统(200)扩束后,生成目标位置无穷远的红外仿真目标。

3.根据权利要求2所述的一种应用像方远心光路的中波红外目标模拟系统,其特征在于,所述目标模拟系统,还用于使红外目标探测器(100)中的冷光阑(102)辐射的冷光线经目标源反射后原路返回,在红外目标探测器(100)的探测面(101)上形成放大光斑,且使目标物像以放大光斑为背景成像于探测面(101)上,以消除鬼像对目标物像的影响的具体过程为:

冷光阑(102)辐射的冷光线经无焦扩束系统(200)集中透射后,入射至耦合平板(600)后,分成两路,其中,

一路冷光线经耦合平板(600)反射后,又经干扰准直物镜(300)透射后,出射平行光至干扰目标源,经干扰目标源反射后,沿原光路返回至耦合平板(600);

一路冷光线经耦合平板(600)透射后,又经目标准直物镜(400)透射,出射平行光至待测目标源,经待测目标源反射后,沿原光路返回至耦合平板(600);

沿原光路返回至耦合平板(600)的两路冷光线,在耦合平板(600)上进行耦合,耦合后的冷光线经无焦扩束系统(200)扩束后,生成目标位置无穷远的冷光阑干扰目标,冷光阑干扰目标又依次经红外目标探测器(100)中的探测透镜(103)、冷光阑(102)和探测面(101)后,在探测面(101)上形成放大光斑,使目标物像以放大光斑为背景成像于探测面(101)上,以消除鬼像对目标物像的影响。

4.根据权利要求2所述的一种应用像方远心光路的中波红外目标模拟系统,其特征在于,目标物像形成的具体过程为:

红外仿真目标依次经过红外目标探测器(100)中探测透镜(103)、冷光阑(102)和探测面(101)后,在探测面(101)上形成的目标物像。

5.根据权利要求2所述的一种应用像方远心光路的中波红外目标模拟系统,其特征在于,红外目标探测器(100)采用红外热像仪实现。

6.根据权利要求2所述的一种应用像方远心光路的中波红外目标模拟系统,其特征在于,干扰准直物镜(300)包括依次排列的1号至4号干扰透镜,且4号干扰透镜(304)紧邻干扰目标源,

1号干扰透镜(301)、2号干扰透镜(302)和4号干扰透镜(304)的材料均为锗,3号干扰透镜(303)的材料为硅。

7.根据权利要求2所述的一种应用像方远心光路的中波红外目标模拟系统,其特征在于,目标准直物镜(400)包括依次排列的1至4号目标透镜,且4号目标透镜(404)紧邻待测目标源,

1号目标透镜(401)、2号目标透镜(402)和4号目标透镜(404)的材料均为锗,3号目标透镜(403)的材料为硅。

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