[发明专利]一种图形化掩模的制造方法

权利要求书

1.一种在衬底上形成图形化掩模的制造方法；其特征是步骤如下：

1)在衬底上设置一层高分子材料；

2)将这层高分子材料中不需要保留的部分区域接触含有固体纳米颗粒的溶液；

3)进行烘烤或微波辐射热处理；

4)将包含这层高分子材料的衬底浸在显影溶液或通过喷雾显影法显影，直到高分子材料接触固体纳米颗粒溶液的区域溶解。

2.如权利要求1所述的方法，其特征是高分子材料组份及质量百分含量如下：

3.如权利要求1所述的方法，其特征是高分子材料组份及质量百分含量如下：

4.如权利要求2或3所述的方法，其特征是所述高分子树脂要含有活性氢键，包括羟基，羧基或酰胺基团；包括醇酸树脂，聚酯树脂，酚醛清漆树脂，丙烯酸树脂，环氧树脂，聚酰亚胺，聚乙烯基苯酚；所述溶剂是高分子材料的良溶剂,包括芳族烃，醇，醚，酯，酮酰胺或氯化烃的溶剂；所述固化剂与高分子材料发生化学反应，形成网状立体聚合物；所述其他助剂包括增粘剂，分散稳定剂或消泡剂。

5.如权利要求4所述方法，其特征是所述丙烯酸树脂为聚丙烯酸或聚甲基丙烯酸共聚物。

6.如权利要求4所述方法，其特征是所述高分子树脂为聚对羟基苯乙烯树脂，环氧树脂，聚乙烯吡咯烷酮其中一种物质或其中多种物质的混合物。

7.如权利要求4所述方法，其特征是所述溶剂为乙二醇醚类，溶纤剂酯类，芳族烃类，酮类，酯类，酰胺类，氯化烃类其中一种物质或是多种物质的混合物。

8.如权利要求7所述方法，其特征是所述乙二醇醚类为乙二醇单甲醚，乙二醇单乙醚，乙二醇二甲醚，乙二醇丁醚，二乙二醇丁醚，三乙二醇丁醚其中一种物质或是多种物质的混合物。

9.如权利要求7所述方法，其特征是所述溶纤剂酯类为甲基溶纤剂乙酸酯，乙基溶纤剂乙酸酯其中一种物质或两种物质的混合物。

10.如权利要求7所述方法，其特征是所述芳族烃类为甲苯，二甲苯其中一种物质或两种物质的混合物。

11.如权利要求7所述方法，其特征是所述酮类为丙酮，丁酮，环戊酮，环己酮其中一种物质或是多种物质的混合物。

12.如权利要求7所述方法，其特征是所述酯类为乙酸乙酯，1,2-丙二醇甲醚乙酸酯，乙酸丁酯，乳酸乙酯，异丁酸异丁酯，1,4-丁内酯其中一种物质或是多种物质的混合物。

13.如权利要求7所述方法，其特征是所述酰胺类为二甲基乙酰胺，N-甲基吡咯烷酮，二甲基甲酰胺其中一种物质或是多种物质的混合物。

14.如权利要求7所述方法，其特征是所述氯化烃类为二氯甲烷，二氯乙烷，1,1,1-三氯乙烷，氯苯，邻二氯苯，其中一种物质或是多种物质的混合物。

15.如权利要求4所述方法，其特征是所述固化剂为含醚键的杂环类化合物；所述醚键链接为6个碳原子的碳烃链和/或含卤素的碳氢化合物和/或苯环及苯环衍生物，醚键与高分子树脂发生交联反应。

16.如权利要求4所述方法，其特征是所述固化剂为交联剂；所述交联剂能够与所述高分子树脂中的酚羟基或邻/对位羟甲基官能团发生缩合反应形成次甲基键及少量醚键，从而使高分子树脂形成网状的交联结构。

17.如权利要求4所述方法，其特征是所述固化剂为乙烯基三胺，二氨基环己烷，三聚氰胺，二已基三胺或它们的混合物。