[发明专利]铀箔的表面处理方法在审

专利信息
申请号: 201810047262.1 申请日: 2018-01-18
公开(公告)号: CN108277490A 公开(公告)日: 2018-07-13
发明(设计)人: 于宁文;罗志福;沈亦佳;邓新荣;向学琴 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: C23F1/30 分类号: C23F1/30;C25D11/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 铀箔 去离子水 清洗 去除 刻蚀 浸泡 阳极氧化 取出 硝酸 附着 三氯化铁水溶液 表面氧化层 去除氧化物 丙酮清洗 超声清洗 反复清洗 清洗表面 四氯乙烯 氧化层 氧化物 水中
【说明书】:

发明提供了一种铀箔的表面处理方法。该方法包括以下步骤:(一)将铀箔置于水中进行超声清洗,去除铀箔附着的水分后,依次以四氯乙烯、丙酮清洗铀箔,然后用去离子水清洗;(二)将去除油脂的铀箔浸泡在8‑10mol/L硝酸中,去除铀箔表面氧化层后取出,用去离子水清洗;(三)将去除氧化层的铀箔浸泡在温度为40‑45℃,浓度为4‑6mol/L的三氯化铁水溶液中刻蚀4‑5分钟,取出后用去离子水清洗;(四)以去离子水清洗表面刻蚀后铀箔上附着的氧化物,然后将铀箔浸泡在8‑10mol/L的硝酸中进一步去除氧化物,取出后用去离子水清洗;(五)对完成刻蚀后清洗的铀箔进行阳极氧化清洗,阳极氧化清洗后,用去离子水对铀箔反复清洗,完成铀箔表面处理。

技术领域

本发明属于核材料领域,特别涉及一种铀箔的表面处理方法。

背景技术

为降低核扩散风险,采用低浓铀靶替换高浓铀靶裂变生产钼-99已成为一种趋势。与高浓铀靶铀芯不同,低浓铀靶铀芯使用纯金属低浓铀,并制成铀箔形态。在此情况下,金属铀箔在反应堆辐照过程中会产生高能量的裂变碎片,会对低浓铀靶件铝包壳产生很大的冲击,因此为保证低浓铀靶件铝包壳的安全,需要在铀箔表面覆盖一层裂变反冲防护层进行反冲防护;另一方面,金属铀极易氧化,需要设置防护层防止铀箔氧化。

目前,可用于裂变反冲防护的材料主要包括铜、铝、锌、镍。其中,铝和锌的熔点较低(分别为660.4℃和419.5℃),在反应堆辐照过程中安全性较差,并且铝在高温下易与靶件外铝筒发生弥合造成镀膜脱落;锌的化学性质过于活泼,且难以得到均匀的镀膜。铜与镍相比,铜的抗拉强度(240MPa)、屈服强度(70MPa)分别小于镍的抗拉强度(403MPa)、屈服强度(103MPa),安全性能较镍差,因此可以认为镍是铀箔防护层的较佳材料。

实际上,对于金属铀表面电镀镍的研究,早期是针对铀的防腐蚀展开的,其应用也较为广泛。而根据前述述及的镍本身的性质,可以将其以镀层形式应用于铀箔的裂变反冲防护。

具体应用中,作为低浓铀靶铀芯的铀箔被夹在两个同心圆形铝筒夹层中,形成紧密贴合的“外铝筒-铀箔-内铝筒”结构,以利于在反应堆辐照过程中充分释放铀箔产生的热量,这就要求铀箔表面镍镀层必需厚度均匀。同时,制靶和解靶工艺也对包括镀层附着牢固度、镀层强度等在内的镍镀层质量提出了较高要求。然而,目前公开报道的铀箔表面镍镀层电镀工艺所能获得的产品,其镍镀层质量均不能较好满足低浓铀靶生产钼-99的应用要求。

发明内容

为解决由现有电镀工艺制得的铀箔表面镍镀层质量不理想,难以满足采用低浓铀靶生产钼-99的应用要求问题,本发明提供了一种铀箔的表面处理方法。该方法包括以下步骤:

(一)去除油脂

将铀箔置于水中进行超声清洗,去除铀箔附着的水分后,依次以四氯乙烯、丙酮清洗铀箔,然后用去离子水清洗;

(二)去除氧化层

将去除油脂的铀箔浸泡在8-10mol/L硝酸中,去除铀箔表面氧化层后取出,用去离子水清洗;

(三)表面刻蚀

将去除氧化层的铀箔浸泡在温度为40-45℃,浓度为4-6mol/L的三氯化铁水溶液中刻蚀4-5分钟,取出后用去离子水清洗;

(四)刻蚀后清洗

以去离子水清洗表面刻蚀后铀箔上附着的氧化物,然后将铀箔浸泡在8-10mol/L的硝酸中进一步去除氧化物,取出后用去离子水清洗;

(五)阳极氧化清洗

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