[发明专利]能充分且相对均匀补光的高拍仪在审
申请号: | 201810050774.3 | 申请日: | 2018-01-18 |
公开(公告)号: | CN108366179A | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 徐秋明;叶志平 | 申请(专利权)人: | 深圳市新良田科技股份有限公司 |
主分类号: | H04N1/04 | 分类号: | H04N1/04;H04N1/028 |
代理公司: | 深圳市硕法知识产权代理事务所(普通合伙) 44321 | 代理人: | 李晓阳 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 补光光源 内凹槽 斗形 拍摄台 补光 拍摄 透镜 四边 拍摄物体 深度设置 均匀性 收光 光源 照射 镜头 发射 覆盖 保证 | ||
1.一种能充分且相对均匀补光的高拍仪,其特征在于:包括用于放置拍摄物体的拍摄台,所述拍摄台上方设置有拍摄臂,所述拍摄臂上设置有面向拍摄台的补光光源和镜头,所述拍摄臂安装补光光源的位置设置为斗形内凹槽,所述斗形内凹槽的底部安装有补光光源,所述补光光源外覆盖有一透镜,所述斗形内凹槽的形状和深度设置为透镜发射的光线经斗形内凹槽各边收光后照射在拍摄台的四边内。
2.根据权利要求1所述的能充分且相对均匀补光的高拍仪,其特征在于:所述斗形内凹槽设置在镜头的后方。
3.根据权利要求1所述的能充分且相对均匀补光的高拍仪,其特征在于:所述斗形内凹槽朝镜头方向的一边的漫反射斜度大于远镜头一边的斜度,所述斗形内凹槽二侧边的漫反射斜度对称。
4.根据权利要求1所述的能充分且相对均匀补光的高拍仪,其特征在于:所述斗形内凹槽的深度为1-35mm。
5.根据权利要求1所述的能充分且相对均匀补光的高拍仪,其特征在于:所述斗形内凹槽的表面为漫反射。
6.根据权利要求1所述的能充分且相对均匀补光的高拍仪,其特征在于:所述镜头中心点到斗形内凹槽中心点的位置为5-200mm。
7.根据权利要求1所述的能充分且相对均匀补光的高拍仪,其特征在于:所述透镜为凸透镜,面向补光光源的一面设置有凹槽和网格纹。
8.根据权利要求1所述的能充分且相对均匀补光的高拍仪,其特征在于:所述补光光源为LED灯。
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