[发明专利]一种基于双脉冲激光液相烧蚀合成纳米晶的装置的烧蚀方法有效

专利信息
申请号: 201810051505.9 申请日: 2018-01-19
公开(公告)号: CN108423709B 公开(公告)日: 2020-03-20
发明(设计)人: 陈军;刘凯;曲华松;曾海波 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: C01G19/00 分类号: C01G19/00;B01J19/12
代理公司: 南京苏创专利代理事务所(普通合伙) 32273 代理人: 张学彪
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 脉冲 激光 液相烧蚀 合成 纳米 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于双脉冲激光液相烧蚀合成纳米晶的装置的烧蚀方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1:调节两条脉冲激光光路在两金属靶材上的辐射位置:

步骤1.1:打开脉冲激光器,调节激光器为单次触发脉冲模式并调节激光器电压;

步骤1.2:使脉冲激光经过衰减镜,且衰减镜可调控脉冲激光总能量;

步骤1.3:使光束经过半波片,通过偏振分光镜将激光分成光路一和光路二;

步骤1.4:使光路一经反射镜反射后垂直射入聚焦镜后聚焦在金属靶材A上;通过调节反射镜上精密光学镜架而实现辐射点的微调节,或移动靶材进行粗调节;

步骤1.5:使光路二经三棱镜改变方向后垂直射入聚焦镜后聚焦在金属靶材B上;通过三棱镜上精密光学镜架而实现辐射点的微调节,或移动靶材进行粗调节;

步骤1.6:通过调节聚焦镜实现两个激光辐射点的同时移动;

步骤1.7:重复步骤1.4、步骤1.5和步骤1.6,实现两条脉冲激光光路辐射点位置在双靶材上的随意移动;

步骤2:调节两条烧蚀脉冲激光光路的能量比:

步骤2.1:打开Nd:YAG调Q脉冲激光器,调节激光器为单次触发脉冲模式并调节激光器电压;

步骤2.2:通过外置能量计测量发射脉冲激光的总能量;通过外置能量计测量经三棱镜反射后辐射在Sn靶上的能量,通过外置能量计测量经发射镜反射后的辐射在Zn靶上的能量;

步骤2.3:旋转半波片,调整经偏振分光镜后的两条光路的能量比为A:B;

步骤2.4:调节脉冲激光器电压,重复步骤2.2和步骤2.3,确定烧蚀Sn靶和Zn靶的脉冲激光能量;

步骤3:通过高速摄像法探究双脉冲机理过程:

步骤3.1:调节相机聚焦位置,使相机聚焦在双靶材夹缝两端的激光辐射点处;

步骤3.2:调节激光器为单次触发脉冲模式;

步骤3.3:打开高速摄像机,设置拍摄速度、快门速度和分辨率;触发激光器单次触发脉冲开关,拍摄双脉冲激光液相烧蚀的整个机理过程,保存数据;

步骤4:调节双脉冲激光烧蚀双金属靶材,制备活性前驱体:

步骤4.1:打开激光器,调节脉冲激光器为Q-Switch连续脉冲模式;

步骤4.2:调节脉冲激光器频率;

步骤4.3:触发脉冲激光器Q-Switch连续脉冲开关,设置烧蚀时间;

步骤4.4:烧蚀结束,关闭激光器,收集活性前驱体产物。

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