[发明专利]质谱基片及制备方法与用途

权利要求书

1.一种用于MALDI‐TOF检测的微纳米结构基片，其制备方法包括：

(1)选用质地坚韧、平面度佳的基片作为基底；

(2)用硅烷偶联剂处理基片：

(i)清洗基片：将基片先后浸入丙酮、甲醇水溶液、氯仿，分别清洗后，取出干燥；

(ii)在加热条件下，将浓酸和双氧水缓慢加入含有基片的水溶液中，进行充分氧化反应后，分别在氯仿、超纯水中进行多次清洗；

(iii)将基片置于干净容器中，加入预先水解的硅烷偶联剂溶液，并加入氨水催化，直至硅烷化反应充分完成；

(iv)取出基片，分别置于乙醇、超纯水、氯仿中，超声清洗；

(v)将清洗后的基片，测量并选择接触角＞120°的基片，作为合格基片；

(3)点样区的亲水性处理：将调制后的酸性试剂直接滴在点样区内，通过该酸性试剂对表面进行化学修饰后，形成亲水性孔状结构，然后超声清洗，最终制备微纳米结构基片；

其中，

步骤(1)所述基片是质地坚韧、平面度佳的不锈钢、金刚石、单晶硅、石英晶体的基片；

步骤(2)所述硅烷偶联剂选自乙烯基硅烷、氨基硅烷、二甲基二氯硅烷；

步骤(3)所述酸性试剂选自氢氟酸、硫酸、溴化氢。

2.根据权利要求1所述的微纳米结构基片，其中方法包括：

步骤(4)通过激光光刻或蚀刻来刻印二维码，至少分成12×12的阵列，该二维码通过与病人的生物信息或样品的来源信息关联，可用于识别基片对应的信息。

3.根据权利要求1或2所述的微纳米结构基片，其中所述基片是单面抛光的硅基片或石英基片；所述接触角＞150°，以形成超疏水表面，或者所述疏水表面的厚度在纳米到微米量级。

4.根据权利要求1或2所述的微纳米结构基片，其中点样区被划隔成适合MALDI‐TOF样品室规格的长方形，划隔精度小于10μm；并通过光刻掩膜版，在基片表面形成亲疏水区域，并将边界精度达到微米级别。

5.根据权利要求1或2的微纳米结构基片，其中在进行质谱检测时，可用读码器或扫码器读取二维码，并将基片对应的病人生物信息或样品的来源信息以及对应的质谱数据同时输入电脑进行编码、存储和识别。

6.根据权利要求5所述的微纳米结构基片，其中所述基片上的亲水点样区数量为48、56、70、96、384，亲水区形状选自圆形，正方形，三角形或多边形。

7.根据权利要求6所述的微纳米结构基片，其中所述亲水区域尺寸范围为100×100μm至1×1mm，所述基片尺寸为20×30‐83×125mm。