[发明专利]一种长波长LED外延垒晶片、芯片及制备方法在审
申请号: | 201810052678.2 | 申请日: | 2018-01-19 |
公开(公告)号: | CN110010731A | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 颜建锋;敖辉;彭泽洋;庄文荣;孙明 | 申请(专利权)人: | 东莞市中晶半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/04 | 分类号: | H01L33/04;H01L33/32;H01L33/00 |
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地址: | 523500 广东省东莞市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 生长 长波长 晶片 电性性能 量子阱 衬底 衬底表面 氮化镓基 外延生长 层厚度 放入 芯片 室内 | ||
1.一种长波长 LED外延垒晶片制备方法,其特征在于,长波长 LED外延垒晶片为长波长GaN LED外延垒晶片,制备步骤包括:
A把外延垒晶衬底放入外延生长反应室内;
B在外延垒晶衬底上生长CaN外延垒晶层,CaN外延垒晶层厚度为h,控制厚度6µm≥h≥0.35µm:
a在外延垒晶衬底表面生长GaN缓冲层;
b在GaN缓冲层上生长n型CaN;
c在n型CaN上生长AlxInyCa(1-x-y)N量子阱:含C的有机生长源通入反应室内在Cl2或HCl的催化下参与量子阱生长,生长温度控制在700℃-990℃之间,其中阱与磊生长温差w控制在100℃>w>0℃,控制量子阱生长速率在0.2A/sec——1.2A/sec之间,量子阱≥7对,量子阱中C的浓度范围为1016——1020cm-3,量子阱中In的含量>3%;
d在AlxInyCa(1-x-y)N量子阱上生长p型CaN。
2. 根据权利要求1所述的长波长 LED外延垒晶片的制备方法,其特征在于,其中所述外延垒晶衬底材料包括:蓝宝石衬底、碳化硅衬底、硅衬底、 CaN衬底、AlN 衬底、ZnO衬底、ZnSe衬底、GaP衬底、GaAs衬底中的一种,或两种或两种以上的复合衬底。
3. 根据权利要求2所述的长波长 LED外延垒晶片的制备方法,其特征在于,其中所述外延垒晶衬底材料包括蓝宝石衬底、CaN衬底其中的一种,或两种复合衬底。
4. 根据权利要求1所述的长波长 LED外延垒晶片的制备方法,其特征在于,其中所述在n型CaN上生长的AlxInyCa(1-x-y)N量子阱,其中x、y的值分别为:0<x<0.5,0.03< y<1。
5. 根据权利要求4所述的长波长 LED外延垒晶片的制备方法,其特征在于,其中所述AlxInyCa(1-x-y)N量子阱中x大小为0<x<0.5,x通过在0——0.5之间的选择,控制LED外延垒晶片的波长在573nm——800nm范围之内选择。
6. 根据权利要求1所述的长波长 LED外延垒晶片的制备方法,其特征在于,其中所述生长AlxInyCa(1-x-y)N量子阱:在垒晶生长完第3对量子阱后,含三甲基或含C的有机生长源通入反应室内在Cl2或HCl的催化下参与量子阱生长。
7. 根据权利要求6所述的长波长 LED外延垒晶片的制备方法,其特征在于,其中所述AlxInyCa(1-x-y)N量子阱为多量子阱,量子阱≥7对,其中第三对量子阱之后的量子阱中分布有C。
8. 根据权利要求1所述的长波长 LED外延垒晶片的制备方法,其特征在于,其中所述含C的有机生长源为三甲基铝源。
9. 根据权利要求1-8任一项所述的长波长 LED外延垒晶片的制备方法制备的长波长LED外延垒晶片,其特征在于,包括外延垒晶衬底、氮化镓基外延垒晶层:
外延垒晶衬底:用于放入反应室内,在上表面依次外延生长包括缓冲层、n型CaN、量子阱、p型CaN;
外延垒晶层厚度为h,6µm≥h≥0.35µm,外延垒晶层包括:
缓冲层:在n型CaN与外延垒晶衬底之间生长CaN缓冲层;
n型CaN:生长于CaN缓冲层之上,量子阱之下;
量子阱:为AlxInyCa(1-x-y)N多量子阱,量子阱≥7对,在n型CaN与p型CaN之间,在(In)GaN量子阱中引入C掺杂,C的浓度范围为1016——1020cm-3,量子阱中C的浓度范围为1016——1020cm-3,量子阱中In的含量>3%;
p型CaN: 生长于量子阱之上。
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