[发明专利]掩膜板及其制作方法

权利要求书

1.一种掩膜板(100)，其特征在于，包括一体成型的框体(101)，该框体(101)还设有一凹陷部(103)，该凹陷部(103)内形成有图案化的网格(105)；该网格(105)包括第一部分(105a)与第二部分(105b)，该第一部分(105a)包括多条在第一方向上平行分布的条状结构，该第二部分(105b)包括多条在第二方向上平行分布的条状结构，该第一部分(105a)与该第二部分(105b)相互交错形成该网格(105)，该第一方向与该第二方向相垂直；该第一部分(105a)与该第二部分(105b)为一体式结构。

2.如权利要求1所述的掩膜板(100)，其特征在于，由该第一部分(105a)与该第二部分(105b)限定形成多个彼此不相连且阵列排布的开口区(107)。

3.如权利要求1所述的掩膜板(100)，其特征在于，该第一部分(105a)的宽度与该第二部分(105b)的宽度相同，该第一部分(105a)的厚度与该第二部分(105b)的厚度相同。

4.如权利要求3所述的掩膜板(100)，其特征在于，该掩膜板(100)还包括设置于该网格(105)上的精密掩膜板(108)，该精密掩膜板(108)包括多个相互间隔分布的条状结构(108a)，所述条状结构(108a)上设置有图案区域。

5.如权利要求4所述的掩膜板(100)，其特征在于，多个该条状结构(108a)平行于该第一部分(105a)设置并覆盖开口区(107)；或，多个该条状结构(108a)平行于该第二部分(105b)设置并覆盖开口区(107)。

6.一种掩膜板(100)制作方法，其特征在于，该制作方法包括：

提供一薄板(10)；

在该薄板(10)上涂布光阻材料，对该光阻材料进行曝光显影，形成一凹陷部(103)，且在该凹陷部(103)周边具有光阻材料保护区域一体成型一框体(101)；

对该凹陷部(103)进行图案化处理，形成网格(105)；该网格(105)包括第一部分(105a)与第二部分(105b)，该第一部分(105a)包括多条在第一方向上平行分布的条状结构，该第二部分(105b)包括多条在第二方向上平行分布的条状结构，该第一方向与该第二方向相互垂直，由该第一部分(105a)与该第二部分(105b)限定形成多个彼此不相连且呈阵列排列的开口区(107)；该第一部分(105a)与该第二部分(105b)为一体式结构。

7.如权利要求6所述的掩膜板(100)制作方法，其特征在于，该第一部分(105a)的宽度与该第二部分(105b)的宽度相同，该第一部分(105a)的厚度与该第二部分(105b)的厚度相同。

8.如权利要求6所述的掩膜板(100)制作方法，其特征在于，在该网格(105)上进行张网铺设精密掩膜板(108)，使得该精密掩膜板(108)的条状结构(108a)平行于该第一部分(105a)设置并覆盖该开口区(107)；或多个该条状结构(108a)平行于该第二部分(105b)设置并覆盖该开口区(107)；该条状结构(108a)的图案区域与该开口区(107)对应。