[发明专利]衬底结构及其制作方法

权利要求书

1.一种衬底结构的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供支撑基底；

在所述支撑基底上形成曝光后的感光材料层，所述曝光后的感光材料层具有第一结合力区和第二结合力区，其中，所述第一结合力区与所述支撑基底的结合力小于所述第二结合力区与所述支撑基底的结合力；

以及在所述曝光后的感光材料层上形成柔性基底，将所述第一结合力区上的感光材料与柔性基底去除，得到图案化的感光材料层以及图案化的柔性基底层，以得到衬底结构；

所述感光材料层的材质为正性感光材料，曝光区域形成所述第一结合力区，非曝光区域形成所述第二结合力区；

在所述支撑基底上形成曝光后的感光材料层的步骤为：

在所述支撑基底上涂布感光材料的前驱体溶液，对所述感光材料的前驱体溶液进行曝光，然后固化之后得到曝光后的感光材料层。

2.根据权利要求1所述的衬底结构的制作方法，其特征在于，所述感光材料层的厚度为100nm～10μm。

3.根据权利要求1所述的衬底结构的制作方法，其特征在于，所述正性感光材料选自硅烷偶联剂、硅氮烷、聚甲基丙烯酸甲酯和聚丁二酸丁二醇酯中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的衬底结构的制作方法，其特征在于，所述正性感光材料为正性硅烷偶联剂，所述正性硅烷偶联剂的化学结构式如下：

其中，R’为感光基团，R1为甲基或者乙基，R2为甲基或者乙基，R3为甲基或者乙基。

5.根据权利要求1所述的衬底结构的制作方法，其特征在于，采用机械剥离的方法将第一结合力区上的感光材料与柔性基底去除。

6.根据权利要求1所述的衬底结构的制作方法，其特征在于，所述图案化的柔性基底的材质为聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯或者聚醚砜。

7.根据权利要求1所述的衬底结构的制作方法，其特征在于，所述支撑基底为玻璃基底。

8.根据权利要求1所述的衬底结构的制作方法，其特征在于，在所述曝光后的感光材料层上形成柔性基底的操作为：在所述曝光后的感光材料层上涂布用于形成柔性基底的前驱体溶液，所述前驱体溶液固化之后形成柔性基底。

9.根据权利要求1所述的衬底结构的制作方法，其特征在于，所述图案化的感光材料层以及所述图案化的柔性基底层的图案均为六角形。

10.根据权利要求1所述的衬底结构的制作方法，其特征在于，所述图案化的感光材料层以及所述图案化的柔性基底层的图案均为矩形或者圆形。