[发明专利]有机物沉积装置及方法

说明书

本发明的实施例涉及一种有机物沉积装置及方法。本发明的有机物沉积装置包括：基板支撑部，用于支撑基板；掩膜支撑部，以与所述基板相面对的方式支撑掩膜；蒸发源，以与所述掩膜相面对的方式布置，且加热有机物而使该有机物蒸发；以及掩膜清洗部，布置于所述蒸发源的一侧，且向所述掩膜照射激光。

技术领域

本发明的实施例涉及一种沉积装置及方法，具体而言，涉及一种配备掩膜清洗部的有机物沉积装置及其方法。

背景技术

有机电致发光元件包括正极、负极以及有机层。在通过正极而注入的空穴和通过负极而注入的电子在有机层重新结合的过程中，借助能量差而发出光。

有机层可以包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层及电子注入层，这些有机层通常可以通过真空沉积法而形成。

用于形成有机层的沉积装置构成为，加热有机物材料而使其蒸发，并且使蒸发的材料沉积于基板上。蒸发的有机物可以借助掩膜而选择性地沉积到基板上。

掩膜通常构成为薄片(sheet)形态，且具有微细地排列成图案形态的多个狭缝(slit)。有机物可以通过各个狭缝而选择性地沉积到基板上。

在沉积过程中，有机物不仅可以沉积于基板，还可以沉积于掩膜的表面或者狭缝。

最近，随着显示装置的分辨率增加，狭缝的大小及狭缝之间的间距减小，从而因沉积于掩膜表面的有机物而引起狭缝大小的减小或者狭缝的堵塞，导致处于不良品增加的趋势。

为防止上述不良，需要经常清洗或更换掩膜，然而这会使工序周期缩短，导致生产能力降低。

发明内容

本发明的实施例的目的在于提供一种在一个工序周期期间内也能够清洗掩膜的有机物沉积装置及方法。

本发明的实施例的另一目的在于提供一种能够减少用于更换的备用掩膜的制作成本的有机物沉积装置及方法。

本发明的实施例的又一目的在于提供一种能够增加单位工序周期及生产量的有机物沉积装置及方法。

用于实现上述目的的根据本发明的一方面的有机物沉积装置可以包括：用于支撑基板的；掩膜支撑部，以与所述基板相面对的方式支撑掩膜；蒸发源，以与所述掩膜相面对的方式布置，且加热有机物而使该有机物蒸发；以及掩膜清洗部，布置于所述蒸发源的一侧，且向所述掩膜照射激光。

所述掩膜清洗部可以包括：用于生成所述激光的光源部；用于传递从所述光源部生成的激光的光学部；以及用于将通过所述光学部传递的激光照射到所述掩膜的扫描部。

有机物沉积装置还可以包括：腔室，提供用于营造沉积氛围的内部空间，且在所述内部空间布置有所述基板支撑部、所述掩膜支撑部、所述蒸发源以及所述掩膜清洗部，而且所述掩膜清洗部可以包括：光学部，从所述腔室外部的光源部接收所述激光的传递；扫描部，向所述掩膜照射通过所述光学部传递的激光。

用于实现上述目的的根据本发明的另一方面的有机物沉积装置可以包括：基板支撑部，用于支撑基板；掩膜支撑部，以与基板相面对的方式支撑掩膜；蒸发源，以与所述掩膜相面对的方式布置，且加热有机物而使该有机物蒸发；腔室，提供用于营造沉积氛围的内部空间，且在所述内部空间布置有所述基板支撑部、所述掩膜支撑部以及所述蒸发源；以及掩膜清洗部，布置于所述腔室的外部，且向所述掩膜照射激光。

所述掩膜清洗部可以包括：用于生成所述激光的光源部；用于传递从所述光源部生成的激光的光学部；以及用于将通过所述光学部传递的激光照射到所述掩膜的扫描部。

所述激光为红外线(IR)激光及紫外线(UV)激光中的任意一种。

有机物沉积装置还可以包括：光学窗口，布置于于所述掩膜清洗部对应的所述腔室的内部，且形成为以使所述激光透射；以及遮光器(chopper)，布置于所述光学窗口的上部，且配备有开口部，以供所述激光通过。