[发明专利]一种掩膜装置、显示面板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种掩膜装置，其特征在于，用于基板成膜中，所述掩膜装置包括掩膜版，所述掩膜版的数量为两种；每种所述掩膜版包括与基板边框区域相对应的边框遮挡部，所述边框遮挡部具有与基板显示区域对应的材料透过区域，所述材料透过区域设有与基板显示区域的开孔位置对应的开孔遮挡部，所述边框遮挡部和所述开孔遮挡部通过位于材料透过区域的定位遮挡部连接，所述定位遮挡部至少为一个；所述掩膜装置应用于基板成膜时，成膜工艺的阴影效应下，所述定位遮挡部在基板的正投影覆盖区域形成膜层；

所述掩膜版包括第一掩膜版和第二掩膜版；所述掩膜装置应用于基板成膜时，所述第一掩膜版的开孔遮挡部和所述第二掩膜版的开孔遮挡部在基板成膜面的正投影重合，所述第一掩膜版的定位遮挡部在基板成膜面的正投影为第一定位遮挡部投影，所述第二掩膜版的定位遮挡部在基板成膜面的正投影为第二定位遮挡部投影，所述第一定位遮挡部投影和所述第二定位遮挡部投影错位。

2.根据权利要求1所述的掩膜装置，其特征在于，所述定位遮挡部为条状遮挡部，所述条状遮挡部的一端与所述边框遮挡部连接，所述条状遮挡部的另一端与所述开孔遮挡部连接；所述条状遮挡部的宽度为40μm-200μm。

3.根据权利要求1所述的掩膜装置，其特征在于，所述开孔遮挡部和所述边框遮挡部均与所述定位遮挡部处在不同平面；所述掩膜装置应用于基板成膜时，所述开孔遮挡部到基板成膜面的距离小于所述定位遮挡部到基板成膜面的距离，所述开孔遮挡部到基板成膜面的距离还小于所述边框遮挡部到基板成膜面的距离。

4.根据权利要求1所述的掩膜装置，其特征在于，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版均包括至少一条水平定位遮挡条和至少一条竖直定位遮挡条；

其中，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中水平定位遮挡条的数量大于等于2，相邻两个所述水平定位遮挡条之间具有水平空隙；和/或，

所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中竖直定位遮挡条的数量大于等于2，相邻两个所述竖直定位遮挡条之间具有竖直空隙；和/或，

所述第一掩膜版中水平空隙与所述第二掩膜版中水平定位遮挡条的一一对应；所述第一掩膜版中水平空隙在基板成膜面的正投影与所述第二掩膜版中水平定位遮挡条在基板成膜面的正投影重合；和/或，

所述第一掩膜版中水平定位遮挡条与所述第二掩膜版中水平空隙的一一对应；所述第一掩膜版中水平定位遮挡条在基板成膜面的正投影与所述第二掩膜版中水平空隙在基板成膜面的正投影重合；和/或，

所述第一掩膜版中竖直空隙与所述第二掩膜版中竖直定位遮挡条的一一对应；所述第一掩膜版中竖直空隙在基板成膜面的正投影与所述第二掩膜版中竖直定位遮挡条在基板成膜面的正投影重合；和/或，

所述第一掩膜版中竖直定位遮挡条与所述第二掩膜版中竖直空隙的一一对应；所述第一掩膜版中竖直定位遮挡条在基板成膜面的正投影与所述第二掩膜版中竖直空隙在基板成膜面的正投影重合。

5.一种显示面板，其特征在于，包括显示基板，以及采用掩膜工艺形成的封装膜层，所述掩膜工艺应用权利要求1～4任一项所述的掩膜装置。

6.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一种显示基板；所述显示基板包括显示区域和边框区域；

采用掩膜工艺在所述显示基板的功能膜层表面形成封装膜层，得到显示面板；所述掩膜工艺使用权利要求1～4任一项所述的掩膜装置；

所述掩膜版的数量为两种时，采用掩膜工艺在所述显示基板的功能膜层表面形成封装膜层包括：

将第一掩膜版放置于所述显示基板的功能膜层上方，使得所述第一掩膜版与所述显示基板进行对位；

以第一掩膜版为掩膜，至少采用一次成膜工艺在所述显示基板的功能膜层表面形成位于显示区域的第一无机膜层，所述第一无机膜层具有第一通孔；

将第二掩膜版放置于所述第一无机膜层背离显示基板的功能膜层的表面上方，使得所述第二掩膜版与所述显示基板进行对位；

以第二掩膜版为掩膜，至少采用一次成膜工艺在所述第一无机膜层上形成第二无机膜层，得到与第一无机膜层构成封装膜层的第二无机膜层，所述第二无机膜层位于显示区域，所述第二无机膜层具有第二通孔，所述第一通孔和所述第二通孔在显示基板的功能膜层表面的正投影重合。