[发明专利]一种付里叶变换阵列的双成像方法、系统及其应用

权利要求书

1.一种付里叶变换阵列的双成像方法，其特征在于，该方法通过光源和聚焦元件阵列形成的付里叶变换阵列系统实现；所述付里叶变换阵列系统包括光源、聚焦元件阵列和微图文阵列；其中，微图文阵列由像素单元组成，像素单元为弱散射单元，像素单元构成具有待成像图形的微图文阵列，所述微图文阵列不在光源的像平面上；利用所述付里叶变换阵列系统对微图文阵列进行付里叶变换莫尔成像；所述光源发出的光线两次穿过微图文阵列，所述光源发出的光线第一次穿过微图文阵列，在光源的像点处形成微图文阵列的第一套付里叶变换谱；所述光线第一次穿过微图文阵列后经过聚焦元件阵列反射第二次穿过微图文阵列，在光源的像点处或者无穷远处形成微图文阵列的第二套付里叶变换谱；各个光源像点处的第一套付里叶变换谱传播形成第一套放大的莫尔图像；各个光源像点处的第二套付里叶变换谱传播形成第二套放大的莫尔图像。

2.根据权利要求1所述付里叶变换阵列的双成像方法，其特征在于，所述双成像方法应用在信息与图像处理、防伪安全、包装装饰中。

3.一种付里叶变换阵列的双成像系统，其特征在于，包括光源、聚焦元件阵列和微图文阵列；所述光源和聚焦元件阵列形成付里叶变换阵列系统，所述微图文阵列由像素单元组成，像素单元为弱散射单元，像素单元构成具有待成像图形的微图文阵列，所述微图文阵列不在光源的像平面上；所述光源发出的光线两次穿过微图文阵列，所述光源发出的光线第一次穿过微图文阵列，在光源的像点处形成微图文阵列的第一套付里叶变换谱；所述光线第一次穿过微图文阵列后经过聚焦元件阵列反射第二次穿过微图文阵列，在光源的像点处或无穷远处形成微图文阵列的第二套付里叶变换谱；各个光源像点处的第一套付里叶变换谱传播形成第一套放大的莫尔图像；各个光源像点处的第二套付里叶变换谱传播形成第二套放大的莫尔图像，所述光源为点光源或准直光源。

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述弱散射单元的散射光与直接透射光的比率1：9以下。

5.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述聚焦元件阵列中，聚焦元件单元的排列方式包括：具有对称轴的正交排列、蜂窝状排列、没有对称轴的低对称性排列或随机排列；所述微图文阵列的排列方式与所述聚焦元件阵列的排列方式相同。

6.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，聚焦元件阵列单元采用柱面微透镜、球面透镜、非球面透镜或菲涅耳透镜；所述聚焦元件阵列单元的口径是圆形、正方形、长方形、六边形或其他多边形。

7.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述的系统还包括基材层，用于固定所述聚焦元件阵列和微图文阵列。

8.根据权利要求3所述付里叶变换阵列的双成像系统，其特征在于，所述双成像系统应用在信息与图像处理、防伪安全、包装装饰中。