[发明专利]真空吸附装置在审

专利信息
申请号: 201810065735.0 申请日: 2018-01-23
公开(公告)号: CN108059076A 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 许根夫;成学平 申请(专利权)人: 深圳市杰普特光电股份有限公司
主分类号: B66C1/02 分类号: B66C1/02;F16B47/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 石佩
地址: 518100 广东省深圳市龙华新区观澜*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 真空 吸附 装置
【权利要求书】:

1.一种真空吸附装置,包括气路通道,其特征在于,所述真空吸附装置还包括层叠设置的第一基板及第二基板,所述第一基板远离所述第二基板的表面为第一表面,所述第二基板远离所述第一基板的表面为第二表面,所述气路通道位于所述第一表面与所述第二表面之间,所述第一基板与所述第二基板中的至少一者为透明基板,以使得所述气路通道可见。

2.根据权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,还包括如下特征中的至少一个:

所述第一基板为透明基板,所述第二基板为不透明基板,所述第一基板靠近所述第二基板的表面开设有气路凹槽,所述第二基板靠近所述第一基板的表面为平面,所述气路通道由所述气路凹槽的内壁与所述第二基板靠近所述第一基板的表面配合形成;

所述真空吸附装置还包括与所述气路通道连通的吸嘴,所述吸嘴为塑料吸嘴;以及

所述透明基板为亚克力板。

3.根据权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,所述真空吸附装置还包括吸嘴以及压块,所述吸嘴及所述压块均设于所述第二基板的所述第二表面上,所述吸嘴的数目为多个,多个所述吸嘴间隔排布围合形成环形结构,所述压块位于多个所述吸嘴围合形成环形结构内,当所述吸嘴吸附住待吸附物体时,所述压块与所述待吸附物体紧贴。

4.根据权利要求3所述的真空吸附装置,其特征在于,所述真空吸附装置还包括螺纹固定柱及螺纹连接柱,所述第一基板上开设有第一固定孔,所述第一固定孔与所述气路通道相互独立,所述第二基板上开设有与所述第一固定孔正对的第二固定孔,所述第一基板与所述第二基板通过穿设于所述第一固定孔及所述第二固定孔上的所述螺纹固定柱密封贴合;

所述第一基板上开设有第一连接孔,所述第一连接孔与所述气路通道相互独立,所述第二基板上开设有与所述第一连接孔正对的第二连接孔,所述压块上开设有与所述第二连接孔正对的第三连接孔,所述压块通过所述第一连接孔、所述第二连接孔以及所述第三连接孔上的所述螺纹连接柱固定于所述第二基板的所述第二表面上。

5.根据权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,所述气路通道包括相互独立的第一气路通道以及第二气路通道,所述第一气路通道包括多个第一支路,所述第二气路通道包括多个第二支路,多个第一支路与多个所述第二支路间隔排布围合形成环形结构,且相邻两个所述第一支路之间的所述第二支路的数目相同;

所述真空吸附装置还包括吸嘴,每一所述第一支路与一所述吸嘴连通,每一所述第二支路与一所述吸嘴连通。

6.根据权利要求5所述的真空吸附装置,其特征在于,所述第一气路通道包括第一环形通路,多个所述第一支路分别与所述第一环形通路连通,所述第二气路通道包括第二环形通路,多个所述第二支路分别与所述第二环形通路连通,其中,所述第二环形通路位于所述第一环形通路内,且所述第一支路与所述第二支路均位于所述第二环形通路与所述第一环形通路之间。

7.根据权利要求6所述的真空吸附装置,其特征在于,还包括如下特征中的至少一个:

所述第二环形通路的数目为多个,多个所述第二环形通路相互独立;以及

所述第一基板上开设有连通所述第一环形通路的第一抽气口,所述第一基板上开设有连通所述第二环形通路的第二抽气口,所述第二抽气口与所述第一抽气口相互独立,且所述第二抽气口与所述第二环形通路的数目相同,所述第一抽气口与所述第一环形通路的数目相同。

8.根据权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,所述真空吸附装置还包括吸嘴及与所述吸嘴连接的单向阀,所述吸嘴与所述单向阀的数目相同,且一一对应,所述单向阀远离所述吸嘴的一端与所述气路通道单向连通,以避免气体通过漏气的吸嘴进入所述气路通道。

9.根据权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,所述真空吸附装置还包括用于与机械手连接的连接件,所述连接件的数目为一个,所述连接件穿设于所述第一基板上,且与所述气路通道相互独立。

10.根据权利要求9所述的真空吸附装置,其特征在于,所述第一基板上还开设有定位孔,在所述机械手上安装所述真空吸附装置时,所述定位孔与所述机械手的定位柱配合。

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