[发明专利]可饱和吸收体及其制备方法和超快被动锁模激光器

权利要求书

1.一种可饱和吸收体，其特征在于，所述可饱和吸收体包括基底以及设置在所述基底表面的金属离子修饰的黑磷纳米片，所述金属离子与所述黑磷纳米片通过超分子相互作用，所述金属离子包括银离子、铜离子、锂离子、钠离子、镁离子和汞离子中的至少一种。

2.如权利要求1所述的可饱和吸收体，其特征在于，所述金属离子修饰的黑磷纳米片的厚度大于或等于3nm。

3.如权利要求2所述的可饱和吸收体，其特征在于，所述金属离子修饰的黑磷纳米片的厚度为3-10nm。

4.如权利要求1所述的可饱和吸收体，其特征在于，所述基底包括光纤端面、微纳光纤锥区或透明玻璃。

5.如权利要求4所述的可饱和吸收体，其特征在于，当所述基底为微纳光纤锥区时，所述金属离子修饰的黑磷纳米片包覆在所述微纳光纤锥区的表面。

6.一种可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

取含有金属离子修饰的黑磷纳米片的溶液，将所述溶液滴加至基底的表面或将所述基底浸入所述溶液中，干燥后制得所述可饱和吸收体；

所述可饱和吸收体包括基底以及设置在所述基底表面的金属离子修饰的黑磷纳米片，所述金属离子与所述黑磷纳米片通过超分子相互作用，所述金属离子包括银离子、铜离子、锂离子、钠离子、镁离子和汞离子中的至少一种。

7.如权利要求6所述的可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，当所述基底包括光纤端面或微纳光纤锥区时；在所述微纳光纤锥区的表面或所述光纤端面滴加所述溶液后或将所述微纳光纤锥区或或所述光纤端面浸入所述溶液中后，在所述微纳光纤或所述光纤中通入波长为980nm的激光光源或中心波长为1550nm的放大自发辐射光源，促使所述金属离子修饰的黑磷纳米片沉积到所述微纳光纤锥区的表面或光纤端面上，照射5-15分钟后，制得所述可饱和吸收体。

8.一种超快被动锁模激光器，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的可饱和吸收体。

9.如权利要求8所述的超快被动锁模激光器，其特征在于，所述超快被动锁模激光器为全光纤激光器或全固态激光器。

10.如权利要求9所述的超快被动锁模激光器，其特征在于，所述全光纤激光器包括依次设置的泵浦源、波分复用器、增益光纤、所述可饱和吸收体、光耦合器、偏振控制器、单模光纤环和偏振无关隔离器；

所述全固态激光器包括依次设置的泵浦源、输入镜、聚焦透镜、增益介质、所述可饱和吸收体和输出镜。