[发明专利]液体汽化装置及使用该液体汽化装置的半导体处理系统有效
申请号: | 201810071252.1 | 申请日: | 2018-01-25 |
公开(公告)号: | CN108277477B | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 周仁;张宝戈;侯彬;吕欣;张建 | 申请(专利权)人: | 沈阳拓荆科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;H01L21/67 |
代理公司: | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人: | 陈福昌 |
地址: | 110179 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 汽化 装置 使用 半导体 处理 系统 | ||
1.一种液体汽化装置,经配置以自一载体气体供给源接收载体气体及自一液体原料供给原接收液体原料,其特征在于,该液体汽化装置包含:
一主体,具有一内壁,该内壁定义一腔体,该腔体具有用于接收一或多个原料的一输入端及用于排出气体的一输出端;及
一阻挡器,设置在该主体的腔体中,并藉此将该腔体分成一第一腔体及一第二腔体,其中该第一腔体包含该输入端而该第二腔体包含该输出端,该阻挡器具有一或多个孔状通道,藉此该第一腔体与该第二腔体通过所述孔状通道相互连通,该阻挡器具有一上表面、一下表面及于该上表面和下表面之间延伸的一侧部,该阻挡器的上表面具有一顶点,且该顶点相对该侧部凸出。
2.按照权利要求1所述的液体汽化装置,其特征在于:该主体还具有用于接收载体气体的一第一通道及用于接收液体原料的一第二通道,该第一通道及该第二通道连通至该腔体的输入端。
3.按照权利要求2所述的液体汽化装置,其特征在于:该第二通道包含自该腔体的输入端向上倾斜延伸的一区段。
4.按照权利要求1所述的液体汽化装置,其特征在于:该主体包含一第一部分及一第二部分,该主体的第一部分与第二部分经由一连接手段而结合在一起。
5.按照权利要求1所述的液体汽化装置,其特征在于:该阻挡器具有一上表面及一下表面,该阻挡器的孔状通道延伸于该上表面及该下表面之间。
6.按照权利要求4所述的液体汽化装置,其特征在于:该阻挡器具有一上表面及一下表面,其中该阻挡器的上表面与该主体的第一部分的一内壁形成该第一腔体,而该阻挡器的下表面与该主体的第二部分的一内壁形成该第二腔体。
7.按照权利要求6所述的液体汽化装置,其特征在于:该第一腔体自该输入端至该阻挡器的上表面是以发散方式延伸。
8.按照权利要求6所述的液体汽化装置,其特征在于:该自二腔体自该阻挡器的下表面至该输出端是以收敛方式延伸。
9.按照权利要求1所述的液体汽化装置,其特征在于:更包含与该主体的第二通道连接的一流量控制手段,用以控制该第二通道的液体原料流量。
10.按照权利要求1所述的液体汽化装置,其特征在于:更包含一固定手段,用以将该阻挡器固定在该主体的腔体中。
11.按照权利要求10所述的液体汽化装置,其特征在于:该固定手段包含自该阻挡器的侧部延伸的一凸出部及自该主体的内壁向内延伸的一凹陷部,通过该凸出部与该凹陷部的配合使该阻挡器定位在该腔体中。
12.按照权利要求1所述的液体汽化装置,其特征在于:更包含一加热手段,设置于该主体的一外围,用以将热导引至该主体。
13.按照权利要求1所述的液体汽化装置,其特征在于:更包含用于将所述汽化装置与周围环境隔绝的一绝缘套。
14.一种半导体处理系统,其特征在于,包含:
一反应腔体,具有用于提供反应气体的一喷淋装置;及
一液体汽化装置,包含:
一主体,具有一内壁,该内壁定义一腔体,该腔体具有用于接收一或多个原料的一输入端及用于排出气体的一输出端,该输出端连通耦接至该反应腔体的喷淋装置;及
一阻挡器,设置在该主体的腔体中,并藉此将该腔体分成一第一腔体及一第二腔体,其中该第一腔体包含该输入端而该第二腔体包含该输出端,该阻挡器具有一或多个孔状通道,藉此该第一腔体与该第二腔体通过所述孔状通道相互连通,该阻挡器具有一上表面、一下表面及于该上表面和下表面之间延伸的一侧部,该阻挡器的上表面具有一顶点,且该顶点相对该侧部凸出。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的