[发明专利]一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法

权利要求书

1.一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：

步骤一、镀金属膜层；

步骤二、镀低折射率膜层；

步骤三、镀高折射率膜层；

步骤四、重复步骤二和步骤三数次，得到不同颜色的膜层。

2.根据权利要求1所述一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述步骤一镀金属膜层为将待镀产品传入装有金属靶材的镀膜腔室，开启泵抽真空及加热装置进行基底加热，使得本底真空达到1×10^-3Pa及达到80-150℃工艺温度后，向腔室通入10-1000sccm的氩气，启动溅射电源，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间10-300S，得到厚度为1-100nm的金属膜层。

3.根据权利要求2所述一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述金属膜层为铜(Cu)、银(Ag)、铝(Al)、铬(Cr)等金属膜层，或镍铜(NiCu)、镍铬(NiCr)等合金膜层。

4.根据权利要求1所述一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述步骤二镀低折射率膜层为将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的低折射率膜层。

5.根据权利要求4所述一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层。

6.根据权利要求1所述一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述步骤三镀高折射率膜层为将镀完低折射率膜层的产品传入装有可形成高折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的高折射率膜层。

7.根据权利要求6所述一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述高折射率膜层为氧化钛、氮化钛、氧化锆、氮化锆、氧化铌、氮化铌、氧化锌、氧化铟、氧化铝、氧化铁、氧化铬、氮化铬等膜层。

8.根据权利要求6所述一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述高低折射膜层的工艺气体为Ar、N₂、O₂中的至少一种，其中Ar气体流量为10-1000sccm，N₂气体流量为10-1000sccm，O₂气体流量为10-1000sccm。

9.根据权利要求1所述一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述步骤四重复步骤二和步骤三的次数为1-100次。