[发明专利]一种青霉菌及其在降解芳香族化合物中的应用有效

专利信息
申请号: 201810073186.1 申请日: 2018-01-25
公开(公告)号: CN108192831B 公开(公告)日: 2023-08-04
发明(设计)人: 叶波平;吴乐阳;彭程 申请(专利权)人: 中国药科大学;南京晶玛生物科技有限公司
主分类号: C12N1/14 分类号: C12N1/14;C02F3/34;B09C1/10;C12R1/80
代理公司: 南京中律知识产权代理事务所(普通合伙) 32341 代理人: 沈振涛
地址: 210000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 青霉 及其 降解 芳香族 化合物 中的 应用
【权利要求书】:

1.一种青霉菌,其分类命名为青霉菌(Penicillium sp.)TIBETAN2,保藏在中国典型培养物保藏中心,保藏编号为:CCTCC M 2016228,保藏日期2016年04月26日。

2.权利要求1所述的青霉菌在降解芳香族化合物中的应用,所述芳香族化合物为苯酚、邻苯二酚、间苯二酚、对苯二酚、甲苯、苯甲酸或萘。

3.如权利要求2所述的应用,其特征在于:所述青霉菌在仅有芳香族化合物为唯一碳源的环境中生长并降解芳香族化合物,或者在含有有机碳源和/或氮源与芳香族化合物的环境中生长并降解芳香族化合物。

4.如权利要求2所述的应用,其特征在于:生长环境中还包括浓度为15.0mM/L的铅离子、浓度6.0mM/L的镉离子、浓度为10.0mM/L的铜离子或浓度为12.5mM/L的锌离子;所述生长环境中还包括重量百分比0.5%-3.5%蔗糖和/或重量百分比0.5%-3.5%葡萄糖和/或重量百分比0.5%-3.5%酵母提取物;所述生长环境中还包括重量百分比0%-7.5%NaCl,或在同等盐胁迫条件下进行;生长条件为:15~35℃和/或pH 2.5~11.5。

5.如权利要求2所述的应用,其特征在于:所述青霉菌在添加芳香族化合物为唯一碳源的无机盐培养基中生长并降解芳香族化合物,或者在添加有机碳源和/或氮源与芳香族化合物的无机盐培养基中生长并降解芳香族化合物。

6.如权利要求5所述的应用,其特征在于:生长环境中还包括浓度为0-17.5mM/L的铅离子、浓度为0-10.0mM/L的镉离子、浓度为0-15.0mM/L的铜离子或浓度为0-25.0mM/L的锌离子;所述生长环境中还包括重量百分比0.5%-3.5%蔗糖和/或重量百分比0.5%-3.5%葡萄糖和/或重量百分比0.5%-3.5%酵母提取物;所述生长环境中还包括重量百分比0%-7.5%NaCl,或在同等盐胁迫条件下进行;所述无机盐培养基为3.78gNa2HPO4·12H2O,0.5gKH2PO4,5.0g NH4Cl,0.2g MgSO4·7H2O,加蒸馏水溶至1000ml,自然pH,121℃下灭菌20min;培养条件为:15~35℃和/或pH 2.5~11.5。

7.权利要求1所述的青霉菌在治理含有芳香族污染物的土壤和水体中的应用;所述芳香族污染物为苯酚、邻苯二酚、间苯二酚、对苯二酚、甲苯、苯甲酸或萘。

8.权利要求1所述的青霉菌在治理含有芳香族残留的化工企业废水处理中的应用;芳香族残留为苯酚、邻苯二酚、间苯二酚、对苯二酚、甲苯、苯甲酸或萘残留。

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