[发明专利]吸附机构、清洗装置、化学发光检测仪及清洗方法

权利要求书

1.一种磁珠复合物吸附机构，用于吸附绕中心轴线公转的反应杯中的磁珠复合物，其特征在于，所述磁珠复合物吸附机构设置有供所述反应杯进出的输入工位、主输出工位和副输出工位，所述副输出工位与输入工位处于同一位置或者位于所述输入工位和所述主输出工位之间，所述磁珠复合物吸附机构包括底座及固定在所述底座上的底吸组件和多个侧吸组件，所述多个侧吸组件环绕所述中心轴线设置且位于所述输入工位和主输出工位之间，所述底吸组件位于所述主输出工位和副输出工位之间，相邻两个所述侧吸组件相互间隔形成供所述反应杯运行的通道；

其中，当所述反应杯公转时，多个所述侧吸组件使所述磁珠复合物交替吸附在所述反应杯相对设置的第一内侧面和第二内侧面上，所述底吸组件位于所述反应杯的公转轨迹的底部，所述底吸组件用于将所述磁珠复合物吸附在废液全部抽取完毕后的所述反应杯的底面上；

沿所述反应杯公转方向，多个所述侧吸组件使得所述磁珠复合物在所述反应杯内侧面的吸附位置逐渐挨近所述反应杯底面，最靠近所述主输出工位的所述侧吸组件上的磁性体相对所述底座的距离最小；所述底吸组件和所述侧吸组件之间的间隙形成所述主输出工位或所述副输出工位，所述副输出工位相对所述主输出工位更靠近所述输入工位；所述底吸组件的一端与所述主输出工位对应，所述底吸组件的另一端与所述副输出工位对应；

所述多个侧吸组件交替设置于所述反应杯的公转轨迹的内侧和外侧，所述多个侧吸组件和所述底吸组件的磁吸面朝向所述反应杯的公转轨迹，相邻两个侧吸组件沿所述反应杯的公转轨迹的周向相互间隔。

2.根据权利要求1所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，每一所述侧吸组件包括沿所述反应杯公转轨迹方向排布的第一对磁铁和第二对磁铁，所述第二对磁铁位于每一所述侧吸组件沿所述反应杯公转轨迹方向的尾部，所述第一对磁铁的磁吸面积大于所述第二对磁铁的磁吸面积，使得吸附在所述反应杯的第一内侧面或第二内侧面的磁珠复合物包括对应的第一聚拢状态和第二聚拢状态，所述第一聚拢状态的紧密程度小于所述第二聚拢状态的紧密程度。

3.根据权利要求1所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，靠近所述主输出工位的侧吸组件包括第一对磁铁、第二对磁铁和第三对磁铁，所述第三对磁铁位于所述侧吸组件沿所述反应杯公转轨迹方向的尾部，所述第一对磁铁、第二对磁铁和第三对磁铁的磁吸面积依次缩小，使得吸附在所述反应杯的第一内侧面或第二内侧面的磁珠复合物包括对应的第一聚拢状态、第二聚拢状态和第三聚拢状态，所述第一聚拢状态、第二聚拢状态和第三聚拢状态的紧密程度依次增大。

4.根据权利要求1所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，所述侧吸组件的数量为五个。

5.根据权利要求1所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，所述多个侧吸组件沿所述反应杯转动方向依次首尾相对设置，所述侧吸组件包括带有与所述中心轴线同轴的圆弧形安装面的安装体，及设置在所述圆弧形安装面上并与所述反应杯相对的若干磁性体；分布在所述输入工位与主输出工位之间的任意相邻两个所述侧吸组件的圆弧形安装面位于所述反应杯运动轨迹的异侧、并相对所述中心轴线的朝向相反。

6.根据权利要求5所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，包括四个侧吸组件和一个底吸组件，所述侧吸组件与所述反应杯的侧壁相对应，所述底吸组件与所述反应杯的底壁相对应。

7.根据权利要求6所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，所述四个侧吸组件包括沿所述反应杯转动方向依次首尾相对设置的第一侧吸组件、第二侧吸组件、第三侧吸组件和第四侧吸组件，所述第一侧吸组件上靠近所述底吸组件的一端与所述输入工位对应，所述第四侧吸组件上靠近所述底吸组件的一端与所述主输出工位对应，所述底吸组件上靠近所述第一侧吸组件的一端与所述副输出工位对应，所述第一侧吸组件上的所述圆弧形安装面面对所述中心轴线。

8.根据权利要求6所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，任意不相邻的两个所述侧吸组件上的所述圆弧形安装面到所述中心轴线的距离相等。