[发明专利]一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质

权利要求书

1.一种提高双面光刻一致性的方法，其特征在于通过下列步骤实现：

(1)在上掩模版和下掩模版初步对准后按顺序叠放，使上掩模版和下掩模版膜面重和，控制面板(7、12)控制下掩模版夹盘及吸盘装置(6)吸住下掩模板(15)；

(2)调整上掩模版夹盘及翻转装置高度调节装置(13)，使上掩模版(14)和下掩模版(15)表面水平贴合；

(3)将水平仪置于上掩模版夹盘及翻转装置(4)上，上掩模版夹盘及翻转装置(4)的把手端与上掩模版夹盘及翻转装置(4)的支架分离，调整上掩模版夹盘及翻转装置高度调节装置(13)，观察水平仪水平后，通过单视场无极变倍显微镜 (10)或CCD摄像头(3)观测使上掩模版(14)与下掩模版(15)分离；单视场无极变倍显微镜(10)能够对掩模版的标记和被曝光的工件的边缘对准的过程进行监示和观看，操作者可在监视器上同时看清两物镜里的像，过程采用3个单视场无极变倍显微镜，通过3个CCD摄像头，用双图方式或单图面显示到监视器上，这种方式相比之前显微对准倍率齐全，图像清晰，分辨率高，有利于对准的精度和速度，提高工作效率；

(4)用单视场无极变倍显微镜(10)或CCD摄像头(3)，将上掩模版(14)和下掩模版(15)上的同轴标记对准；

(5)三方向可调节工件安装架(5)固定安装在下掩模版夹盘及吸盘装置(6)上；

(6)将待曝光的工件放置在三方向可调节工件安装架(5)中；

(7)调整上掩模版夹盘及翻转装置高度调节装置(13)使上掩模版夹盘及翻转装置(4)的高度与工件的高度一致，将上掩模版夹盘及翻转装置(4)至水平；步骤(7)中调整上掩模版夹盘及翻转装置高度调节装置上的高度调节旋钮，根据不同尺寸的工件厚度，调整上掩模版的相对位置，使上掩模版与工件上表面平行；上掩模版夹盘及翻转装置高度调节装置(13)调节上掩模版(14)和被曝光的工件的平行度；使上掩模版(14)和被曝光的工件贴合，这个调整过程采用了微力接触调整装置，该调整装置为曝光机上掩模版夹盘及翻转装置(4)的端头安装的配重块；

(8)通过调整三方向可调节工件安装架(5)使被曝光的工件的边缘与上掩膜板(14)的同轴标记对准，固定被曝光的工件的位置；

(9)单视场无极变倍显微镜(10)或CCD摄像头(3)记录步骤(8)的监控调整和对准过程；

(10)控制面板(7、12)调整270°对准曝光头(2)和下曝光头(8)的曝光参数，对工件进行曝光，光源(1)安装在270°对准曝光头(2)的顶部，200W超高压汞灯发出强紫外线光，经12面反射镜形成多点光源。

2.根据权利要求1所述的一种提高双面光刻一致性的方法，其特征在于：在所述步骤(7)中调整上掩模版夹盘及翻转装置高度调节装置上的高度调节旋钮，根据不同尺寸的工件厚度，调整上掩模版的相对位置，使上掩模版与工件上表面平行，该旋钮刻线每一小格为0.01mm，旋转一圈为0.5mm。

3.根据权利要求1所述的一种提高双面光刻一致性的方法，其特征在于：在所述步骤(8)中通过三方向调节工件的边缘与上掩模版的图形对准，最终锁紧工件，避免曝光过程中发生位移。