[发明专利]用于表面处理的设备和方法在审
申请号: | 201810074656.6 | 申请日: | 2018-01-25 |
公开(公告)号: | CN108342701A | 公开(公告)日: | 2018-07-31 |
发明(设计)人: | 谢尔盖·米克海洛夫 | 申请(专利权)人: | 谢尔盖·米克海洛夫 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C16/513 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 殷超;谭祐祥 |
地址: | 瑞士纳*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂覆 沉积腔室 电弧离子源 激光烧蚀 金属过滤 连接凸缘 凸缘连接 涂覆材料 地连接 可移除 凸缘 | ||
1.一种用于涂覆零件的设备,包括沉积腔室和多个涂覆装备,所述多个涂覆装备用于同时或连续地向所述沉积腔室提供涂覆材料,其中所述涂覆装备中的至少一个是具有激光点火的电弧碳源,所述电弧碳源之后是磁力和静电宏观粒子过滤器,其特征在于,所述涂覆装备中的至少两个经由连接凸缘可拆卸地连接到所述沉积腔室。
2.根据权利要求1所述的设备,其中所述涂覆装备中的至少一个是金属过滤电弧离子源,所述金属过滤电弧离子源之后是磁力和/或静电宏观粒子过滤器,其中所述凸缘中的至少两个是相同的,使得一个所述涂覆装备能够经由不同的凸缘连接到所述沉积腔室。
3.根据权利要求1所述的设备,其中所述具有激光点火的过滤电弧碳源之后是磁力和静电宏观粒子过滤器,所述磁力和静电宏观粒子过滤器包括:在所述沉积腔室的相对侧上的一对电磁线圈;第三线圈,其在所述电弧碳源与所述一对电磁线圈的所述线圈中的一个之间,与所述一对电磁线圈成一角度;以及静电偏转器。
4.根据权利要求1所述的设备,其中所述激光烧蚀源包括激光器、用于将由所述激光器产生的激光束朝向靶材偏转的镜、用于旋转所述靶材的第一马达、以及用于移位所述镜的第二马达,以便烧蚀所述靶材的不同部分。
5.根据权利要求4所述的设备,其中所述激光束与所述靶材的切线成小于45°的角度。
6.根据权利要求4所述的设备,还包括第三马达,其用于使所述靶材相对于所述激光束沿平行于所述靶材的旋转轴线的轴线移位。
7.根据权利要求1所述的设备,其中所述激光烧蚀源包括两个激光器,所述两个激光器以交错模式操作以用于烧蚀一个或多个靶材。
8.根据权利要求1所述的设备,包括自清洁窗口,其允许激光束照射到所述具有激光点火的过滤电弧碳源上。
9.根据权利要求1所述的设备,其中磁力分离器包括约45°的弯曲。
10.根据权利要求1所述的设备,其中每次放电的阴极电流包含在4000A与10000A之间,相对于阳极的阴极电势包含在100与500V之间。
11.根据权利要求1所述的设备,其中静电阱相对于阳极保持正电势。
12.根据权利要求1所述的设备,包括相对于等离子体电势电移位的人造壁。
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