[发明专利]一种加热器支撑装置

说明书

一种加热器支撑装置，安装于一垂直式熔炉内的一周围绝热体的内周缘，周围绝热体的内周缘设有多个轴向且具有间隔的卡合部；而加热器支撑装置包括多个限位件以及多个支撑件。其中，多个限位件松动的卡接在相对应的多个卡合部上，使多个限位件与多个卡合部不会脱离；相对应的一限位件与一卡合部之间具有一径向空间，使限位件在卡合部内具有足够的径向移动距离；而多个支撑件分别位于多个限位件的一端，多个支撑件分别具有一定位槽，供容纳并支撑与该周围绝热体同轴心的一线圈型加热组件。

技术领域

本发明涉及一种加热器支撑装置，尤其涉及一种能在热膨胀/收缩时，让多个支撑构件不会从周围绝热体处脱离，而被运用于半导体制造设备上的垂直式熔炉中。

背景技术

在半导体工艺的扩散程序及化学气相沉积(CVD)程序中，垂直式熔炉主要是利用熔炉内的线圈型加热组件加热反应气体，通过在多个如晶圆之类的基板上形成一薄膜。其中，线圈型加热组件由多个轴向排列的支撑构件所支撑，多个支撑构件由构件支架所支撑定位，而绝热体则是环绕在构件支架周围。上述结构在晶圆进行薄膜形成期间的热膨胀/收缩过程中，因为多个应力的作用，多个支撑构件容易会因损坏而降低加热效率，或是让线圈型加热组件的预期使用寿命缩短。

如中国台湾专利公告第I555959号的加热器支撑装置、加热器、半导体制造设备、半导体制造方法及支撑构件，则是提供一种解决上述问题的加热器支撑装置，其包括：一线圈型加热组件，其具有一线圈形状，并被配置在一待加热的物体的周围；以及多个被垂直连接地支撑构件，其中一具有朝半径方向延长的椭圆形状的多个中空体分别地被形成于这些支撑构件之间，该线圈型加热组件被插入该等中空体内，并分别地由这些支撑构件所支撑，多个凹嵌部朝一与该线圈型加热组件交叉的方向分别地被安置在这些支撑构件的多个上表面上，并且多个凸嵌部被分别安置在这些支撑构件的多个下表面上，而这些支撑构件其中之一者的该等凸嵌部与支撑构件中的一者相邻接的该等支撑构件中的另一者的该等凹嵌部被插入配合，并且多个支撑构件通过这些凹嵌部与这些凸嵌部的插入配合而被垂直连接。 多个构件支架被垂直连接以便支撑这些支撑构件；及一周围绝热体，其被配置在该线圈型加热组件周围以便支撑这些构件支架，其中这些构件支架控制这些支撑构件在水平方向上的移动。通过上述结构以分别限制多个支撑构件在一垂直式熔炉的半径及圆周方向上的相对位移，并限制一被连接至各自支撑构件上的构件支架朝该垂直式熔炉的中心方向的移动。

如图8所示，通过上述加热器支撑装置9，确实可以达到预期的效果。但是，多个支撑构件91主要是由高氧化铝材料所制成，在加热至约800℃再冷却以移出基板所需要的吸热及散热时间较长，对于缩短整个作业时间尚有待加强的空间；再者，为了防止多个支撑构件91由于线圈型加热组件92的热膨胀/收缩而导致偏离或变形、短路，上述加热器支撑装置9的多个构件支架93的周围上形成两层与线圈型加热组件92呈同轴心的周围绝热体94、95，沿着内侧周围绝热体94轴向并等距雕刻多个U形沟槽941，以分别地支撑多个构件支架93，使任一构件支架93的三个横向侧紧靠在多个沟槽941内；而多个多构件支架93的上部与下部分别插入上、下支架支撑凹部内并分别由其所支撑，以控制多个构件支架93不会从周围绝热体94处脱离，并移向垂直式熔炉的轴心位置。

发明内容

有鉴于此，为了提供一种有别于现有技术的结构，并改善上述的缺陷， 本发明的一目的在提供一种加热器支撑装置，能解决现有技术中的多个构件支架以三个横向侧紧靠在一周围绝热体的多个沟槽内，并使多个多构件支架的上部与下部分别限制在上、下支架支撑凹部内，以控制多个构件支架不会从周围绝热体处脱离的问题，而能利用另一种方式，通过直接对构件支架及沟槽的形状予以加工成型，使产生同样的效益，而可简化加工程序，降低生产成本。

本发明的一目的在提供一种加热器支撑装置，能解决现有技术中的多个支撑构件在加热再冷却以移出基板所需要的吸热及散热时间较长的问题，而能有效缩短整个作业时间，以提高生产效率。