[发明专利]一种基于非晶或纳米晶带材的磁性薄片及其制造方法在审
申请号: | 201810076589.1 | 申请日: | 2018-01-26 |
公开(公告)号: | CN108461262A | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 尉晓东;刘志坚 | 申请(专利权)人: | 麦格磁电科技(珠海)有限公司 |
主分类号: | H01F27/34 | 分类号: | H01F27/34;H01F27/36;H01F38/14;H01F41/02;C09J7/29 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 俞梁清 |
地址: | 519040 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁性薄片 鳞片状结构 带材 纳米晶 非晶 中间粘接层 表面粘接 区域接触 微小间隙 不接触 减小 两层 间隙边缘 接触电阻 涡流损耗 制造工艺 磁导率 粘接 绝缘 填充 制造 | ||
1.一种基于非晶或纳米晶带材的磁性薄片,其特征在于,包括:
两层或两层以上的基于非晶或者纳米晶带材形成的鳞片状结构,所述鳞片状结构具有多个碎片,相邻的碎片部分区域接触或完全不接触,相邻的碎片之间存在微小间隙;
中间粘接层,其两层面分别设置第一粘接面和第二粘接面,所述中间粘接层插入各层鳞片状结构之间,并通过第一粘接面和第二粘接面粘结鳞片状结构,各层鳞片状结构通过中间粘接层层叠;
表面粘接层,所述表面粘接层的其中一层面设置第三粘接面,所述表面粘接层通过第三粘接面粘结于两层或两层以上鳞片状结构的最上层和/或最下层表面。
2.根据权利要求1所述的一种基于非晶或纳米晶带材的磁性薄片,其特征在于,所述第一粘接面、第二粘接面和第三粘接面均不填充碎片之间的间隙,间隙由气体填充。
3.根据权利要求1或2所述的一种基于非晶或纳米晶带材的磁性薄片,其特征在于,所述鳞片状结构上的多个碎片之间的间隙呈随机分布的网状。
4.根据权利要求1或2所述的一种基于非晶或纳米晶带材的磁性薄片,其特征在于,所述中间粘接层由胶黏剂组成。
5.根据权利要求1或2所述的一种基于非晶或纳米晶带材的磁性薄片,其特征在于,所述中间粘接层由薄膜及分布在薄膜两层面上的胶黏剂组成。
6.根据权利要求1或2所述的一种基于非晶或纳米晶带材的磁性薄片,其特征在于,所述表面粘接层包括薄膜,所述第三粘接面设置于薄膜的其中一层面上。
7.根据权利要求1或2所述的一种基于非晶或纳米晶带材的磁性薄片,其特征在于,两层或两层以上鳞片状结构包括基于非晶带材形成的鳞片状结构和基于纳米晶带材形成的鳞片状结构。
8.一种如权利要求1~7任一项所述磁性薄片的制造方法,其特征在于,包括:在每层非晶或纳米晶带材的一侧贴覆带有保护膜的中间粘接层;撕掉中间粘接层上的保护膜,将两层或两层以上带有中间粘接层的非晶或纳米晶带材进行层叠处理并形成叠层结构,在层叠时,中间粘接层和非晶或纳米晶带材间隔设置;对叠层结构中的非晶或纳米晶带材进行碎片化处理,分隔为多个碎片;在碎片化处理之前或之后,叠层结构的最上层和/或最下层表面贴覆表面粘接层。
9.根据权利要求8所述磁性薄片的制造方法,其特征在于,在对非晶或纳米晶带材进行碎片化处理时,多次将叠层结构通过一对上齿轮压辊和下齿轮压辊之间的缝隙,上、下齿轮压辊啮合转动,以对非晶或纳米晶带材弯折碎化。
10.根据权利要求9所述磁性薄片的制造方法,其特征在于,在对非晶或纳米晶带材进行碎片化处理后,将叠层结构通过一对圆形压辊进行压合,使叠层结构上、下表面保持平整。
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