[发明专利]显示基板及其制作方法、显示面板和显示装置在审

专利信息
申请号: 201810076879.6 申请日: 2018-01-26
公开(公告)号: CN110085133A 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 孙中元;王伟;王路 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G09F9/33 分类号: G09F9/33
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;张天舒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示基板 显示区域 阻挡结构 阻水层 衬底基板 裂纹扩散 显示结构 显示面板 显示装置 边框 窄边框设计 周边区域 减薄 减小 断开 制作 切割 阻挡 覆盖
【权利要求书】:

1.一种显示基板,包括衬底基板、设置在所述衬底基板的显示区域上的显示结构和设置在所述衬底基板上的第一阻水层,其特征在于,还包括阻挡结构,所述阻挡结构设置在所述衬底基板上,且位于所述显示区域四周的周边区域;所述第一阻水层覆盖所述显示结构和所述阻挡结构;

所述阻挡结构用于通过使所述第一阻水层被减薄或者断开,来阻挡位于所述阻挡结构的远离所述显示区域一侧的所述第一阻水层上产生的裂纹扩散至所述显示区域。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述阻挡结构包括设置在所述衬底基板上的凸部,并且沿着所述凸部的凸出方向,所述凸部在平行于所述衬底基板所在平面上的截面面积逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述阻挡结构包括自所述衬底基板的靠近所述显示结构所在一侧的表面朝向所述衬底基板的内部凹进的凹部,并且沿着所述凹部的凹进方向,所述凹部在平行于所述衬底基板所在平面上的截面面积逐渐增大。

4.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述凸部直接设置在所述衬底基板的靠近所述显示结构所在一侧的表面上。

5.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,在所述衬底基板的靠近所述显示结构所在一侧的表面设置有朝向所述衬底基板的内部凹进的至少一个凹槽,并且在所述凸部与所述凹槽对应的表面上设置有子凸部,且所述子凸部一一对应地设置在所述凹槽中,并且所述子凸部与所述凹槽相配合。

6.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,在所述衬底基板的靠近所述显示结构所在一侧的表面设置有朝向所述衬底基板的内部凹进的凹槽;所述凸部设置在所述凹槽中,且所述凸部的一部分自所述凹槽的开口凸出,并且所述凸部的平行且远离所述衬底基板所在平面的表面尺寸大于或者等于所述凹槽的开口尺寸。

7.根据权利要求6所述的显示基板,其特征在于,在所述凹槽的底面上设置有至少一个子凸部,并且在所述凸部的与所述凹槽的底面相对的表面上设置有子凹部,且所述子凹部一一对应地位于所述子凸部中,并且所述子凹部与所述子凸部相配合。

8.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,在所述衬底基板的靠近所述显示结构所在一侧的表面设置有朝向所述衬底基板的内部凹进的凹槽,且在所述凹槽中设置有至少一个孤岛结构;所述凸部的数量与所述孤岛结构的数量相对应,且所述凸部一一对应地设置在所述孤岛结构上。

9.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,在所述衬底基板的靠近所述显示结构所在一侧的表面设置有朝向所述衬底基板的内部凹进的凹槽,在所述凸部的与所述凹槽相对的表面设置有填充部,所述填充部填充在所述凹槽中。

10.根据权利要求5-9任意一项所述的显示基板,其特征在于,所述衬底基板包括载板,所述凹槽设置在所述载板上;或者,

所述衬底基板包括载板和设置在所述载板上的介质层,所述凹槽设置在所述介质层上。

11.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述阻挡结构包括设置在所述衬底基板上的凸部,并且沿着所述凸部的凸出方向,所述凸部在平行于所述衬底基板所在平面上的截面面积的变化趋势为先增大后减小。

12.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述凸部在垂直于所述衬底基板所在平面上的正投影形状为等腰梯形。

13.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述凹部在垂直于所述衬底基板所在平面上的正投影形状为等腰梯形。

14.根据权利要求9所述的显示基板,其特征在于,所述凸部在垂直于所述衬底基板所在平面上的正投影形状为等腰梯形。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810076879.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top