[发明专利]一种利用巯基-烯点击反应制备无机晶须/POSS杂化材料的方法有效

专利信息
申请号: 201810077209.6 申请日: 2018-01-26
公开(公告)号: CN108276605B 公开(公告)日: 2020-02-18
发明(设计)人: 张健;高传慧;任秀;刘园园;刘月涛;张青瑞;丁煜;武玉民 申请(专利权)人: 青岛科技大学
主分类号: C08K9/04 分类号: C08K9/04;C08K7/08;C09D7/62
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 郑平
地址: 266042 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 巯基 点击 反应 制备 无机 poss 材料 方法
【权利要求书】:

1.一种利用巯基-烯点击反应制备无机晶须/POSS杂化材料的方法,其特征在于,包括:

将无机晶须进行表面巯基化;

将含乙烯基的POSS和表面巯基化的无机晶须在引发剂存在的条件下,在紫外光照下,发生巯基-烯点击反应,制得表面接枝乙烯基POSS的无机晶须。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述无机晶须为表面富集羟基的碱式硫酸镁晶须、硫酸钙晶须或钛酸钾晶须。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述无机晶须进行表面巯基化的具体步骤为:将含巯基的偶联剂在一定比例的醇水溶液中稀释,调节pH值到一定酸性;然后将偶联剂溶液滴加到晶须与水混合液中,于一定温度下反应,抽滤、洗涤、烘干,即得。

4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述含巯基的硅烷偶联剂为γ-巯丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-巯丙基三甲氧基硅烷或γ-巯丙基三乙氧基硅烷中的一种。

5.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述含巯基的硅烷偶联剂与无机晶须的质量比为0.05~3:1。

6.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述反应温度条件为40~120℃下反应时间1~10h。

7.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述巯基-烯点击反应的时间为2~30min。

8.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述含乙烯基的POSS与巯基化的无机晶须的质量比为0.1~1:1。

9.权利要求1-8任一项所述的方法制备的无机晶须/POSS杂化材料。

10.权利要求9所述的无机晶须/POSS杂化材料在制备工程塑料、涂料及隔热、绝缘材料中的应用。

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