[发明专利]一种利用巯基-烯点击反应制备无机晶须/POSS杂化材料的方法有效
申请号: | 201810077209.6 | 申请日: | 2018-01-26 |
公开(公告)号: | CN108276605B | 公开(公告)日: | 2020-02-18 |
发明(设计)人: | 张健;高传慧;任秀;刘园园;刘月涛;张青瑞;丁煜;武玉民 | 申请(专利权)人: | 青岛科技大学 |
主分类号: | C08K9/04 | 分类号: | C08K9/04;C08K7/08;C09D7/62 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 郑平 |
地址: | 266042 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 利用 巯基 点击 反应 制备 无机 poss 材料 方法 | ||
1.一种利用巯基-烯点击反应制备无机晶须/POSS杂化材料的方法,其特征在于,包括:
将无机晶须进行表面巯基化;
将含乙烯基的POSS和表面巯基化的无机晶须在引发剂存在的条件下,在紫外光照下,发生巯基-烯点击反应,制得表面接枝乙烯基POSS的无机晶须。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述无机晶须为表面富集羟基的碱式硫酸镁晶须、硫酸钙晶须或钛酸钾晶须。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述无机晶须进行表面巯基化的具体步骤为:将含巯基的偶联剂在一定比例的醇水溶液中稀释,调节pH值到一定酸性;然后将偶联剂溶液滴加到晶须与水混合液中,于一定温度下反应,抽滤、洗涤、烘干,即得。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述含巯基的硅烷偶联剂为γ-巯丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-巯丙基三甲氧基硅烷或γ-巯丙基三乙氧基硅烷中的一种。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述含巯基的硅烷偶联剂与无机晶须的质量比为0.05~3:1。
6.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述反应温度条件为40~120℃下反应时间1~10h。
7.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述巯基-烯点击反应的时间为2~30min。
8.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述含乙烯基的POSS与巯基化的无机晶须的质量比为0.1~1:1。
9.权利要求1-8任一项所述的方法制备的无机晶须/POSS杂化材料。
10.权利要求9所述的无机晶须/POSS杂化材料在制备工程塑料、涂料及隔热、绝缘材料中的应用。
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