[发明专利]一种湿法黑硅制备方法

权利要求书

1.一种湿法黑硅制备方法，其特征在于：所述制备方法按照如下步骤：

步骤1，将硅片表面涂覆刻蚀液，静置加热反应10-30min；刻蚀液采用酸性刻蚀液或者碱性刻蚀液；所述酸性刻蚀液采用3-7wt％的氢氟酸，所述酸性刻蚀液的使用温度为60-70℃；所述碱性刻蚀液采用0.1-0.5mol/L的氢氧化钠或者氢氧化钾溶液，所述碱性刻蚀液的使用温度为80-90℃；

步骤2，将刻蚀后的硅片放入蒸馏水中超声反应20-40min，取出后烘干；所述超声反应的频率为2.5-5.5kHz，温度为30-50℃；烘干温度为50-80℃；

步骤3，将步骤2中的硅片放入硝酸银和硝酸铜混合液中超声反应10-15min，加入氢氟酸浸泡1-3h，得到沉积硅片；所述硝酸银和硝酸铜混合液的硝酸银浓度为10-15wt％，硝酸铜的浓度为13-17％，所述超声频率为10-15kHz,超声温度为70-90℃，所述氢氟酸的加入量为硝酸银和硝酸铜混合液质量的40-60％；

步骤4，将沉积硅片放入氢氟酸与双氧水的混合溶液中，微波反应2-4h，得到刻蚀硅片；所述氢氟酸与双氧水的质量比为2-5:1，所述氢氟酸的浓度为10-15wt％，所述微波反应的功率为200-500W，温度为60-70℃；

步骤5，将刻蚀硅片表面清洗干净，得到黑硅；所述表面清洗的第一清洗液采用盐酸与双氧水的混合溶液，第二清洗液采用无水乙醇或者乙醇水溶液，所述盐酸溶液的浓度为1.5-5.5wt％，所述双氧水与盐酸的质量比为1:3-7；所述乙醇水溶液中乙醇的质量浓度为60-80％。