[发明专利]一种过渡金属硫化物修饰的铜集流体及其制备方法有效
| 申请号： | 201810081426.2 | 申请日： | 2018-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN108493454B | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | 谢科予;沈超;田秀丽;张坤;黄继宏;张丁 | 申请（专利权）人： | 湖南航盛新能源材料有限公司 |
| 主分类号： | H01M4/66 | 分类号： | H01M4/66;H01M10/052 |
| 代理公司： | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人： | 张明 |
| 地址： | 410000 湖南省长沙*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 过渡 金属 硫化物 修饰 流体 及其 制备 方法 | ||
1.一种过渡金属硫化物修饰的铜集流体的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：
(1)原位沉积：利用原位沉积技术在铜箔上原位沉积过渡金属，于铜箔上形成一层过渡金属层；所述过渡金属为钼、钨、钴、镍和钒中的一种；
(2)原位生成：在所述过渡金属层上复合一层单质硫后，作为工作电极组装电池，利用电压循环活化使过渡金属与单质硫反应形成过渡金属硫化物后，即得到所述的一种过渡金属硫化物修饰的铜集流体；
所述步骤(1)之前还包括步骤S1、清洗：依次用丙酮、乙醇和去离子水清洗铜箔表面，然后真空干燥；所述步骤S1中，真空干燥的温度为60-100℃，干燥时间为10-14h；
所述步骤(1)中，原位沉积的时间为1-12h，原位沉积的过渡金属层厚度为10-800nm；
所述步骤(2)中，过渡金属硫化物的厚度为20nm-2μm；所述步骤(2)中，电压循环活化的活化电压为0.1-5V，活化电流为10μA-100mA，活化时间1-20h。
2.根据权利要求1所述的一种过渡金属硫化物修饰的铜集流体的制备方法，其特征在于：所述过渡金属为钼。
3.根据权利要求1所述的一种过渡金属硫化物修饰的铜集流体的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中，组装电池采用的电解液由锂盐和溶剂组成，所述锂盐为LiPF6、LiFSI、LiTFSI、LiNO3中的至少一种，锂盐的浓度为0.1-10mol/L，所述溶剂为EC、DMC和EMC中的至少一种。
4.一种过渡金属硫化物修饰的铜集流体，其特征在于：所述过渡金属硫化物修饰的铜集流体由权利要求1-3任意一项所述的制备方法制得。
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