[发明专利]一种球体抛光装置有效
申请号: | 201810082841.X | 申请日: | 2018-01-29 |
公开(公告)号: | CN108000342B | 公开(公告)日: | 2020-01-17 |
发明(设计)人: | 王东方;葛成;崔涛;王汝冬;隋永新 | 申请(专利权)人: | 长春国科精密光学技术有限公司 |
主分类号: | B24B29/04 | 分类号: | B24B29/04;B24B41/00;B24B57/02;B24B1/00 |
代理公司: | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王会会;李海建 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 球体 抛光 装置 | ||
本发明公开了一种球体抛光装置,包括用于悬浮支撑球体的抛光组件,抛光组件包括:抛光液循环系统,抛光液循环系统包括用于为抛光液提供压力的压力泵;抛光头,抛光头的内表面设置有多道沟槽;用于驱动抛光头旋转的驱动机构;用于将抛光液输送至抛光头的内表面的输送管道。该装置可以有效避免在抛光过程中球体表面留下加工变质层和微裂纹等缺陷,从而进一步提升了球体的加工质量和加工精度。
技术领域
本发明涉及研磨技术领域,特别涉及一种球体抛光装置。
背景技术
在精密仪器和高精度测量中,经常会用到高精度的球体,有些场合要求球度在0.025μm以下,而有些场合要求的精度会更高一些,因此,对球体的超精加工研磨技术研究具有十分重要的意义。
目前,球体研磨一般采用平面研磨或者以V型槽为代表的研磨技术,但是上述两种研磨方式只能适合加工小直径的球体,且加工精度也达不到超高精密量级,而对于大直径球体的加工,在众多的球体研磨技术中,效果较为突出且成本较低的研磨设备一般采用四轴球体研磨机,该研磨机虽然能够研磨出直径为38mm的光学玻璃球,且其圆度精度优于0.025μm,但是该设备采用的机械研磨的方式,不可避免的会在球表面留下加工变质层和微裂纹等缺陷,从而大大降低了完整球的加工质量和加工精度。
因此,如何提供一种球体抛光装置,能够在研磨过程中有效避免在球体表面留下加工变质层和微裂纹等缺陷,从而提升球体的加工质量和加工精度是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的在于提供一种球体抛光装置,能够在研磨过程中有效避免在球体表面留下加工变质层和微裂纹等缺陷,从而提升球体的加工质量和加工精度。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种球体抛光装置,包括用于悬浮支撑球体的抛光组件,所述抛光组件包括:
抛光液循环系统,所述抛光液循环系统包括用于为抛光液提供压力的压力泵;
抛光头,所述抛光头的内表面设置有多道沟槽;
用于驱动所述抛光头旋转的驱动机构;
用于将所述抛光液输送至所述抛光头的内表面的输送管道。
优选的,所述抛光头的内表面的曲率半径等于所述球体的曲率半径和所述抛光头与所述球体之间形成的圆弧间隙的曲率半径之和。
优选的,所述抛光头通过联轴器与所述驱动机构的输出端相连。
优选的,还包括连接杆,所述连接杆的一端与所述抛光头固定相连,所述连接杆的另一端能够在所述联轴器内沿所述连接杆的轴向方向窜动,所述连接杆上还设置有预紧装置。
优选的,所述输送管道为开设在所述抛光头内部的中心部位的节流孔。
优选的,所述抛光组件为对称设置的4个,分别为第一抛光组件、第二抛光组件、第三抛光组件和第四抛光组件,且所述第一抛光组件和所述第二抛光组件的轴线的延长线与所述第三抛光组件和所述第四抛光组件的轴线的延长线相交形成正四面体形状。
优选的,所述驱动机构为电机。
优选的,所述预紧装置为弹簧,或者为砝码。
优选的,所述沟槽为螺旋式沟槽,或者为同心环式沟槽。
优选的,所述抛光头上还设置有用于增强磁场的线圈。
由以上技术方案可以看出,本发明所公开的球体抛光装置,包括用于悬浮支撑球体的抛光组件,所述抛光组件包括:抛光液循环系统,抛光液循环系统包括用于为抛光液提供压力的压力泵;抛光头,抛光头的内表面设置有多道沟槽;用于驱动抛光头旋转的驱动机构;用于将抛光液输送至抛光头的内表面的输送管道。
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