[发明专利]电活性涂层及形成电活性涂层用的组合物有效

专利信息
申请号: 201810083030.1 申请日: 2014-11-17
公开(公告)号: CN108165140B 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 韩建中;顾庭嘉;江若玟 申请(专利权)人: 博九通科技股份有限公司
主分类号: C09D165/00 分类号: C09D165/00;C09D179/08;C09D5/24;H01G9/042;H01G9/15
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邢岳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 活性 涂层 形成 组合
【权利要求书】:

1.一种电活性涂层,用于电磁辐射屏蔽,或用于红外线、无线射频及微波吸收屏蔽,或用于抗腐蚀涂布层,或用于触控荧幕的透明电活性涂层,或用于触控面板的电活性涂层,或用于可挠曲电子元件的电活性涂层、软性导电连接器,或薄膜开关的电活性涂层,或用于电路板的贯孔导电涂层,或用于发光二极体、电致变色显示器、电致发光显示器、场效电晶体、有机记忆元件、太阳能电池元件、光伏打电池、染料敏化太阳能电池、智慧卡、超级电容器或感测器的电活性涂层,且由组成物形成,其特征在于,所述组成物包括:

做为单体的至少一种式(1)的化合物,

其中,

X选自硫、氧、硒、碲、PR2与NR2,其中R2选自氢,以及经取代和未经取代的烷基、芳基、杂芳基、烷醯基与芳醯基;

Y为氢,或易离去基Y-的前驱物,所述易离去基Y-的共轭酸即HY的pKa30;

Z为氢、硅烷基,或易离去基Z-的前驱物,所述易离去基Z-的共轭酸即HZ的pKa30;

b为0、1或2;

各R1为取代基,其中当b为2时,两个所述R1可以相同或不同,且可连成一个环;并且

所述至少一种式(1)的化合物包括至少一种Z=H且Y≠H的式(1)的化合物;

做为聚合催化剂的酸,选自质子酸、高分子酸与非过渡路易斯酸;以及

至少一种功能性成分,选自溶剂、聚合抑制剂、聚合物黏合剂、掺杂剂、介电层保护剂、塑化剂、耐冲击改质剂、交联剂、界面活性剂与分散稳定剂,但至少包含至少一种聚合抑制剂,所述至少一种聚合抑制剂包括具有碱性强过所述单体的至少一种路易斯碱,其中,

所述至少一种路易斯碱是含有至少一个具有孤对电子的原子的化合物,所述至少一个具有孤对电子的原子是选自氧原子、氮原子、硫原子与磷原子,且所述至少一种路易斯碱包括含氧聚合物、含氮聚合物、含硫聚合物或含磷聚合物,或者

作为所述聚合催化剂的酸包括高分子酸。

2.一种电活性涂层,用于电磁辐射屏蔽,或用于红外线、无线射频及微波吸收屏蔽,或用于抗腐蚀涂布层,或用于触控荧幕的透明电活性涂层,或用于触控面板的电活性涂层,或用于可挠曲电子元件的电活性涂层、软性导电连接器,或薄膜开关的电活性涂层,或用于电路板的贯孔导电涂层,或用于发光二极体、电致变色显示器、电致发光显示器、场效电晶体、有机记忆元件、太阳能电池元件、光伏打电池、染料敏化太阳能电池、智慧卡、超级电容器或感测器的电活性涂层,且由组成物形成,其特征在于,所述组成物包括:

做为单体的至少一种式(2)的化合物;

其中,

各个X彼此相同或不同,且各自独立地选自硫、氧、硒、碲、PR2与NR2,其中R2选自氢,以及经取代和未经取代的烷基、芳基、杂芳基、烷醯基与芳醯基;

Y为氢,或易离去基Y-的前驱物,所述易离去基Y-的共轭酸即HY的pKa30;

Z为氢、硅烷基,或易离去基Z-的前驱物,所述易离去基Z-的共轭酸即HZ的pKa30;

Ar为经取代或未经取代的、单核或多核的芳环或杂芳环;

m、o与p各自独立为大于或等于0的整数,但m+p31;

各个k独立为0、1或2;

各R5为取代基,其中在同一个环或相邻两个环上的任两个R5可连成另一个环,或者R5与在相邻Ar环上的取代基可连成另一个环;并且

其中所述至少一种式(2)的化合物包括Z=H且Y≠H的至少一种式(2)的化合物;

做为聚合催化剂的酸,其是选自质子酸、高分子酸与非过渡路易斯酸;以及

至少一种功能性成分,选自溶剂、聚合抑制剂、聚合物黏合剂、掺杂剂、介电层保护剂、塑化剂、耐冲击改质剂、交联剂、界面活性剂与分散稳定剂,但至少包含至少一种聚合抑制剂,所述至少一种聚合抑制剂包括具有碱性强过所述单体的至少一种路易斯碱,其中,

所述至少一种路易斯碱是含有至少一个具有孤对电子的原子的化合物,所述至少一个具有孤对电子的原子是选自氧原子、氮原子、硫原子与磷原子,且所述至少一种路易斯碱包括含氧聚合物、含氮聚合物、含硫聚合物或含磷聚合物,或者

作为所述聚合催化剂的酸包括高分子酸。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于博九通科技股份有限公司,未经博九通科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810083030.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top