[发明专利]半导体装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810086146.0 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN108288627A 公开(公告)日: 2018-07-17
发明(设计)人: 内藤达也 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 魏小薇
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 感测单元 半导体装置 隔离单元 方向偏离 衬底 制造 隔离
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,其特征在于,包括:

衬底;

多个感测单元;以及

形成在相邻两个感测单元之间的隔离单元,

其中,在绿色感测单元和相邻的其它颜色的感测单元之间的隔离单元中的至少一个被布置成至少部分地从均匀隔离以上两个感测单元的中间位置朝着远离所述绿色感测单元的方向偏离。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于:

所述隔离单元中的至少一个被布置成包括位于所述中间位置的保持部分和从所述中间位置朝着远离所述绿色感测单元的方向偏离的凸出部分。

3.根据权利要求2所述的半导体装置,其特征在于:

所述隔离单元中的至少一个被布置成包括分别位于所述中间位置的第一保持部分和第二保持部分,以及位于第一保持部分和第二保持部分之间并且从所述中间位置朝着远离所述绿色感测单元的方向偏离的凸出部分。

4.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于:

所述隔离单元中的至少一个被布置成整体从所述中间位置朝着远离所述绿色感测单元的方向偏离。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的半导体装置,其特征在于:

至少一个绿色感测单元的能够接收辐射的有效面积大于其他颜色的感测单元的能够接收辐射的有效面积。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的半导体装置,其特征在于:

所述感测单元包括形成在所述衬底中的感光区域以及与所述感光区域对应地形成在所述衬底上的滤色元件。

7.根据权利要求6所述的半导体装置,其特征在于:

所述隔离单元包括形成在相邻两个感光区域之间的感光隔离元件和形成在相邻两个滤色元件之间的滤色隔离元件中的至少一个。

8.根据权利要求7所述的半导体装置,其特征在于:

所述感光隔离元件包括深沟槽隔离结构。

9.根据权利要求1-4所述的半导体装置,其特征在于:

能够以2×2阵列的形式对所述感测单元进行分组,并且,

分组得到的每一组的感测单元按照拜尔图案布置。

10.根据权利要求1-4中任一项所述的半导体装置,其特征在于:

所述半导体装置包括图像传感器。

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