[发明专利]一种光学元件面形加工的工艺与参数选择及其应用方法有效
| 申请号： | 201810089971.6 | 申请日： | 2018-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN108446423B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 宋辞;戴一帆;彭小强;杜航;石峰;胡皓 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;B24B1/00 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 谭武艺 |
| 地址： | 410073 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光学 元件 加工 工艺 参数 选择 及其 应用 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学元件面形加工的工艺与参数选择方法，其特征在于实施步骤包括：
1)针对目标光学元件建立加工有限参数库，所述加工有限参数库包括用于对目标光学元件进行面形加工的至少两组以上的工艺与参数；
2)计算每一组工艺与参数的修形效率FA；且计算每一组工艺与参数的修形效率FA的函数表达式如式(1)所示；
式(1)中，RMSbefore为使用去除函数仿真加工前的面形RMS值，RMSafter为使用去除函数仿真加工后的面形RMS值，T为仿真加工时间，RMSE为待加工面形中可修正的低频误差成分值，RMSHE为待加工面形中不可修正的高频误差成分值；
3)选择修形效率FA值最大的一组工艺与参数作为输出的最优工艺与参数。
2.一种权利要求1所述的光学元件面形加工的工艺与参数选择方法的应用方法，其特征在于，实施步骤包括：
S1)针对目标光学元件采用权利要求1所述的光学元件面形加工的工艺与参数选择方法选择确定最优工艺与参数；
S2)根据最优工艺与参数对目标光学元件进行面形加工指定时间；
S3)对目标光学元件的面形进行测量；
S4)判断目标光学元件的面形精度是否满足指定条件，如果尚未满足指定条件则跳转执行步骤S2)；否则，结束并退出。
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