[发明专利]半导体装置的制造方法和半导体装置有效

专利信息
申请号: 201810092368.3 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN108630630B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 桥诘昭二;高田圭太 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/495;H01L23/49
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 金春实
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【说明书】:

本发明提供一种半导体装置的制造方法和半导体装置。提高半导体装置的可靠性。在半导体装置(SD)的制造方法中,在对以在Y方向上重叠的方式配置的2个半导体芯片(CH1及CH2)进行树脂密封时,在作为模具的树脂注入口的浇口部(G1)的附近配置引线(2d),来防止在密封体(1)内残留空隙。而且,引线(2d)的内引线部(IL)的Y方向上的长度(L2)比在Y方向上与芯片搭载部(4a)重叠的引线(2a)的内引线部(IL)的Y方向上的长度(L1)长。

技术领域

本发明涉及一种半导体装置的制造方法和半导体装置,例如涉及有效应用于将多个半导体芯片和多个引线进行树脂密封而成的半导体装置的制造方法和半导体装置的技术。

背景技术

在日本特开2012-109435号公报(专利文献1)的图2中公开了将搭载于裸片焊盘2上的2个半导体芯片CH1、CH2进行树脂密封而成的半导体装置。

在日本特开平8-46119号公报(专利文献2)中公开了在半导体元件的树脂密封工序中通过设计引线框架的形状来防止空隙的产生的技术。

专利文献1:日本特开2012-109435号公报

专利文献2:日本特开平8-46119号公报

发明内容

发明要解决的问题

本申请发明人对将半导体芯片进行树脂密封而成的SOP(Small OutlinePackage:小外形封装)型半导体装置进行了研究。在该半导体装置中,在密封体的主面,在第一长边配置有多个第一引线,在与第一长边对置的第二长边配置有多个第二引线。而且,配置于第一长边的多个第一引线具有与半导体芯片电连接的多个第三引线以及不与半导体芯片连接的多个第四引线,多个第三引线被设计成尽可能短以进行半导体装置的高速动作。另外,多个第四引线是与多个第三引线相等的长度,成为短的结构。

另外,在对半导体芯片进行密封的树脂密封(模制)工序中,在密封体的主面的第一短边配置作为向模具的空腔内注入树脂的注入口的浇口(gate)部,在与第一短边对置的第二短边配置作为排出空腔内的空气和树脂的排出口的出口(vent)部。而且,多个第四引线是与配置浇口部的第一短边接近地配置,但是由于第四引线短,因此在浇口部的附近形成有不存在引线的空洞部。

本申请发明人认识到如下课题:在半导体装置的树脂密封工序中,起因于所述空洞部的存在,在密封体内残留气泡(空隙、空孔),半导体装置的可靠性降低,详情在后面记述。

其它课题和新的特征会通过本说明书的记述和附图变得明确。

用于解决问题的方案

一个实施方式中的半导体装置的制造方法具有以下的工序:

(a)工序,准备引线框架,该引线框架具备将多个第一引线相互连结且在俯视观察时沿第一方向延伸的第一连结杆、将多个第二引线相互连结且在俯视观察时沿第一方向延伸的第二连结杆、与第一连结杆及第二连结杆分别连结的连结部、在俯视观察时配置于第一连结杆与第二连结杆之间的第一芯片搭载部以及在俯视观察时配置于第一芯片搭载部与第二连结杆之间的第二芯片搭载部;

(b)工序,在(a)工序之后,在第一芯片搭载部搭载第一半导体芯片,在第二芯片搭载部搭载第二半导体芯片;

(c)工序,在(b)工序之后,用第一模具和第二模具夹持分别搭载有第一半导体芯片和第二半导体芯片的引线框架,经由形成于第一模具且设置于与引线框架的连结部重叠的位置的浇口部向由第一模具和第二模具规定的空腔供给树脂,形成对多个第一引线各自的一部分、多个第二引线各自的一部分、第一芯片搭载部、第二芯片搭载部、第一半导体芯片以及第二半导体芯片进行密封的密封体。

而且,在半导体装置的制造方法中,多个第一引线各自具有被密封体覆盖的内引线部和从密封体暴露的外引线部,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810092368.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top