[发明专利]军用电子设备基板的等离子体清洗气体和清洁方法

权利要求书

1.军用电子设备基板的等离子体清洗剂，包括下述的重量份数的原料：

壬基酚聚氧乙烯醚 5-15 椰子油酰二乙醇胺5-20

十八烷基二羟乙基甜菜碱 1-10 N-十二烷基丙氨酸 1-9

乙二胺四乙酸1-4 柠檬酸1-3

异丙醇1-5 精制柠檬油烯1-4

环氧丙烷1-4 精制松节油1-4

脂肪醇聚氧乙烯醚1-4 亚硝酸钠1-4

二氯五氟丙烷1-3 丙酮1-5

水20-60。

2.如权利要求1所述的军用电子设备基板的等离子体清洗剂，其特征在于，包括下述的重量份数的原料：

壬基酚聚氧乙烯醚 10 椰子油酰二乙醇胺15

十八烷基二羟乙基甜菜碱5 N-十二烷基丙氨酸6

乙二胺四乙酸2 柠檬酸2

异丙醇3 精制柠檬油烯2

环氧丙烷2 精制松节油2

脂肪醇聚氧乙烯醚2 亚硝酸钠2

二氯五氟丙烷2 丙酮3

水40份。

3.如权利要求1所述的军用电子设备基板的等离子体清洗剂，其特征在于，还包括：甲氧基九氟丁烷4份，一氯五氟丙烷2份，二氯一氟乙烷3份。

4.如权利要求1所述的军用电子设备基板的等离子体清洗剂，其特征在于，该清洗剂的制备方法包括下述的步骤：

（1）按配比将20份水加入到反应釜中，升温至35-45℃，然后分别加入壬基酚聚氧乙烯醚10 份、椰子油酰二乙醇胺15份、十八烷基二羟乙基甜菜碱5份、 N-十二烷基丙氨酸6份、乙二胺四乙酸2 份、柠檬酸2份；

（2）再将20份水加入到反应釜中，再加入精制柠檬油烯2 份、环氧丙烷2份、精制松节油2份、脂肪醇聚氧乙烯醚2份、亚硝酸钠2份、二氯五氟丙烷2份；搅拌均匀；

（3）最后将异丙醇3 份、丙酮3份加入到（2）的物料中，搅拌均匀，得产品。

5.如权利要求1所述的军用电子设备基板的等离子体清洗剂，其特征在于，该清洗剂的制备方法包括下述的步骤：

（1）按配比将20份水加入到反应釜中，升温至35-45℃，然后分别加入壬基酚聚氧乙烯醚10份、椰子油酰二乙醇胺15份、十八烷基二羟乙基甜菜碱5份、 N-十二烷基丙氨酸6份、乙二胺四乙酸2 份、柠檬酸2份；

（2）再将20份水加入到反应釜中，再加入精制柠檬油烯2 份、环氧丙烷2份、精制松节油2份、脂肪醇聚氧乙烯醚2份、亚硝酸钠2份、二氯五氟丙烷2份、甲氧基九氟丁烷4份，一氯五氟丙烷2份，二氯一氟乙烷3份；搅拌均匀；

（3）最后将异丙醇3 份、丙酮3份加入到（2）的物料中，搅拌均匀，得产品。

6.军用电子设备基板的等离子体清洗剂，其制备方法包括下述的步骤：

（1）按配比将20份水加入到反应釜中，升温至35-45℃，然后分别加入壬基酚聚氧乙烯醚10份、椰子油酰二乙醇胺15份、十八烷基二羟乙基甜菜碱5份、 N-十二烷基丙氨酸6份、乙二胺四乙酸2份、柠檬酸2份；

（2）再将20份水加入到反应釜中，再加入精制柠檬油烯2 份、环氧丙烷2份、精制松节油2份、脂肪醇聚氧乙烯醚2份、亚硝酸钠2份、二氯五氟丙烷2份、甲氧基九氟丁烷4份，一氯五氟丙烷2份，二氯一氟乙烷3份；搅拌均匀；

（3）最后将异丙醇3 份、丙酮3份加入到（2）的物料中，搅拌均匀，得产品。

7.如权利要求1所述的军用电子设备基板的等离子体清洗剂的清洁方法：将权利要求1中的清洗剂稀释3-5倍，再均匀喷涂于军用电子设备基板表面，过3-8分钟，然后再采用清水冲洗，最后，再次喷涂权利要求1中的清洗剂，再次用清水冲洗。

8.如权利要求1所述的军用电子设备基板的等离子体清洗剂的清洁方法：将权利要求1中的清洗剂稀释4倍，再均匀喷涂于军用电子设备基板表面，过6分钟，然后再采用清水冲洗，最后，再次喷涂权利要求1中的清洗剂，再次用清水冲洗。