[发明专利]一种精细金属掩膜板及其制备方法、掩膜集成框架

说明书

本发明实施例提供一种精细金属掩膜板及其制备方法、掩膜集成框架，涉及掩膜蒸镀技术领域，能够解决现有的掩膜板在掩膜蒸镀工艺中，掩膜板上产生的褶皱使形成膜层的图案边缘出现偏差的问题。在精细金属掩膜板上设置有掩膜图案区域，精细金属掩膜板还包含沿掩膜图案区域的至少一侧边缘、且与该边缘相接的保护区域，保护区域的厚度小于掩膜图案区域的厚度。

技术领域

本发明涉及掩膜蒸镀技术领域，尤其涉及一种精细金属掩膜板及其制备方法、掩膜集成框架。

背景技术

显示装置包括阵列排布的多个像素单元，每个像素单元包括有红、绿、蓝三种颜色的子像素单元(简称为R/G/B子像素单元)。其中，以OLED显示装置为例，任意一个子像素单元具体包括阳极层、空穴传输层、可发出红光/绿光/蓝光的发光层、电子传输层以及阴极层。目前，OLED显示装置中的R/G/B子像素单元通常采用像素并置法(Side by Side)的排列方式，在制备各子像素单元时采用掩膜板技术，利用掩膜板上掩膜区域的遮挡作用将R/G/B子像素单元中的其中两种颜色的子像素单元遮挡，然后通过蒸镀或喷墨打印的方式将成膜材料通过掩膜板的图案区域沉积在对应于未遮挡的颜色的子像素单元，形成相应的图案作为其发光层(Emitting Layer，简称为EML)的主体材料。再依次露出R/G/B子像素单元中其他两种颜色的子像素单元进行沉积成膜，以制作整个像素单元的发光层。

随着显示装置的重要参数之一屏幕PPI(Pixels Per Inch，每英寸内拥有的像素数目)的增多，掩膜板上的构图图案区域也随之需要进一步精细化，这就需要使用精细金属掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)，精细金属掩膜板上包括有多个图案区域，以及位于相邻两个图案区域之间的掩膜区域，以蒸镀成膜为例，在进行蒸镀工艺时，将多个精细金属掩膜板在张网拉伸的状态下焊接在框架上制成掩膜集成框架(Mask Frame Assembly，MFA)，并将该掩膜集成框架置入蒸镀机内使用。

由于精细金属掩膜板在拉伸状态下仍然难以避免的会产生褶皱，掩膜集成框架在蒸镀机中与待成膜基板之间贴附蒸镀时，精细金属掩膜板上的褶皱会在精细金属掩膜板的图案区域聚集，这样就容易导致形成膜层的图案边缘出现偏差，当使用精细金属掩膜板制作像素单元图案时，由于边缘偏差导致在不同颜色的子像素单元形成的膜层的边界发生交叉或重叠，从而导致在显示时子像素单元之间发生混色问题，影响显示效果，损失加工良率。

发明内容

本发明实施例提供一种精细金属掩膜板及其制备方法、掩膜集成框架，能够解决现有的掩膜板在掩膜蒸镀工艺中，掩膜板上产生的褶皱使形成膜层的图案边缘出现偏差的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面，提供一种精细金属掩膜板，在精细金属掩膜板上设置有掩膜图案区域，精细金属掩膜板还包含沿掩膜图案区域的至少一侧边缘、且与该边缘相接的保护区域，保护区域的厚度小于掩膜图案区域的厚度。

优选的，保护区域在位于精细金属掩膜板的一侧表面减薄。

进一步的，保护区域在位于精细金属掩膜板的另一侧表面也减薄。

优选的，保护区域在精细金属掩膜板的两侧表面减薄的厚度相同。

优选的，减薄厚度占掩膜图案区域厚度的比例为掩膜图案区域的单像素开口率的0.7-1.3倍。

进一步的，减薄厚度占掩膜图案区域厚度的比例与掩膜图案区域的单像素开口率相等。

本发明实施例的另一方面，提供一种掩膜集成框架，包括上述任一项的精细金属掩膜板，以及掩膜板框架，多个精细金属掩膜板固定在掩膜板框架上。

优选的，保护区域至少在精细金属掩膜板靠近待蒸镀基板的一侧减薄。

优选的，保护区域设置在掩膜图案区域的、垂直于精细金属掩膜板两焊接点连线方向的两侧边缘。