[发明专利]一种具有自发修复物理损伤功能的原子氧防护涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种具有自发修复物理损伤功能的原子氧防护涂层的制备方法，其步骤如下：

(1)对传统原子氧防护涂层构筑材料进行化学修饰，衍生出可产生超分子相互作用的化学基团，使其能够自组装形成兼具原子氧防护能力和自修复能力的超分子聚合物；所述的传统原子氧防护涂层构筑材料为聚倍半硅氧烷、二氧化硅纳米粒子、二氧化钛纳米粒子、蒙脱土中的一种或多种；衍生出可产生超分子相互作用的化学基团为脲基嘧啶酮、酰肼基、酰胺基、脲基、硫脲基、苯硼酸基、硼酸基、吡啶基、三氮唑基、咪唑基、羧基、氨基或磺酸基；

(2)对基底材料依次使用丙酮和去离子水超声清洗1～30min，在真空烘箱中干燥0.5～12h；然后将基底材料在0.1～10M的硫酸溶液或0.1～10M的氢氧化钠溶液中，在25～100℃条件下浸泡1～60min，最后用大量去离子水冲洗基底材料，晾干；

(3)将步骤(1)制备的超分子聚合物配置为浓度为0.1～10wt％的溶液或分散液、或直接将超分子聚合物本体涂覆在步骤(2)处理后的基底上，从而实现具有自发修复物理损伤功能的原子氧防护涂层的制备，制备的涂层厚度为20nm到50μm；所述的基底材料为聚醚醚酮、聚对苯二甲酰对苯二胺、聚酰亚胺、聚酯、聚苯硫醚或尼龙66。

2.如权利要求1所述的一种具有自发修复物理损伤功能的原子氧防护涂层的制备方法，其特征在于：步骤(3)所述的涂层的涂覆方式为浸涂、滴涂、旋涂、层层组装、热压、狭缝挤压或辊涂。