[发明专利]平版印刷用模板的制造方法、记录介质及衬底处理装置

说明书

本发明涉及平版印刷用模板的制造方法、记录介质及衬底处理装置。本发明的目的在于，提供可提高模板的品质的技术。本发明的解决手段为下述技术，其具有将衬底搬入处理室的工序，所述衬底在中央具有图案形成区域、在其外周具有非接触区域；衬底载置台具有支承非接触区域的背面的凸部、和与凸部共同构成空间的底部，使衬底载置台中的凸部支承非接触区域的背面的工序；在向处理室供给第二热气体的状态下，向空间供给第一热气体从而加热衬底的工序；和在加热的工序之后，在向空间供给上述第一热气体的状态下，向处理室供给处理气体从而处理衬底的工序。

技术领域

本发明涉及平版印刷用模板(template for lithography)的制造方法、记录介质及衬底处理装置。

背景技术

作为处理衬底的衬底处理装置，有例如在处理室内具有支承衬底的衬底支承部的装置(例如专利文献1)。

对于衬底处理装置而言，构成为能够处理许多种类的衬底。作为多种衬底中的一种，包括用作纳米压印用平版印刷模板的玻璃衬底。有将上述模板转印至被转印衬底上的树脂、形成图案的方法(例如专利文献2)。

[现有技术文献]

[专利文献]

专利文献1：日本特开2016-63033号公报

专利文献2：日本特开2013-235885号公报

发明内容

发明要解决的课题

在纳米压印处理中，将平版印刷用模板的结构转印至被转印衬底，因此对于模板结构需要高准确性。为了制造准确性高的模板，需要例如在模板结构中形成硬掩膜等衬底处理。形成硬掩膜时，进行例如加热衬底等的处理。

然而，在纳米压印技术领域中，用于模板的衬底的特性对在衬底上形成的图案(膜)特性产生影响。结果，若使用模板进行转印，则存在形成于被转印衬底的半导体器件的特性降低的课题。

因此，本发明提供能够提高模板的品质的技术。

用于解决课题的手段

根据本发明，提供一种技术，具有下述工序：将衬底搬入处理室的工序，所述衬底在中央具有图案形成区域、在其外周具有非接触区域；衬底载置台具有支承非接触区域的背面的凸部、和与凸部共同构成空间的底部，使所述衬底载置台中的凸部支承非接触区域的背面的工序；在向处理室供给第二热气体(hot gas)的状态下，向空间供给第一热气体从而加热衬底的工序；和，在加热的工序之后，在向空间供给上述第一热气体的状态下，向处理室供给处理气体从而处理衬底的工序。

发明效果

通过本发明涉及的技术，能够提供可提高模板的品质的技术。

附图说明

图1：为对通过实施方式处理的衬底进行说明的图。

图2：为对实施方式涉及的衬底处理装置进行说明的图。

图3：为对实施方式涉及的衬底载置台进行说明的图。

图4：为对实施方式涉及的衬底载置台的温度分布进行说明的图。

图5：为对实施方式涉及的气体供给部进行说明的图。

图6：为对实施方式涉及的控制器进行说明的图。

图7：为对实施方式涉及的衬底处理流程进行说明的图。

图8：为对实施方式涉及的处理气体的供给顺序例进行说明的图。

图9：为对实施方式涉及的热气体的供给顺序例进行说明的图。

图10：为对比较例涉及的衬底载置台及温度分布进行说明的图。