[发明专利]光刻装置及物品的制造方法

说明书

本发明提供一种光刻装置及物品的制造方法，所述光刻装置在基板上形成图案，其特征在于，所述光刻装置包括：卡盘，其包括用于保持所述基板的第一保持面、以及与所述第一保持面相反一侧的背面；载台，其包括用于保持所述卡盘的第二保持面，并能够移动；板，其包括第一清洁面、以及与所述第一清洁面相反一侧的第二清洁面；保持部，其以垂直方向的保持力小于水平方向的保持力的方式来保持所述板或所述卡盘，并能够移动；以及处理部，其通过所述保持部所保持的所述板的所述第二清洁面对所述第一保持面和所述第二保持面中的至少一者进行清洁，并通过所述板的所述第一清洁面对所述保持部所保持的所述卡盘的所述背面进行清洁。

技术领域

本发明涉及一种光刻装置及物品的制造方法。

背景技术

为了提高半导体器件或液晶显示元件等器件的生产率，对在这些器件的制造中使用的曝光装置等光刻装置要求高吞吐量。于是，促进了光刻装置中使用的基板载台的高加速度化。为了实现基板载台的高加速度化，除基板载台的轻量化之外，将在基板载台上用于保持基板的卡盘轻量化(薄型化)也是有效的。另一方面，近年来，为了提高器件的生产率，基板的大型化也不断发展，与之相伴，卡盘的大型化也不断发展。

此外，在光刻装置中，为了应对器件的高集成化以及微小化，高NA(numericalaperture，数值孔径)化不断发展。但是，通过高NA化，虽然提高了解析度，但是降低了有效的焦深，因此在光刻装置中，要求以高的平面度来保持基板。

如果促进卡盘的薄型化，则卡盘的刚性降低，因此与卡盘的基板保持面(正面)相反一侧的面(背面)与用于保持卡盘的基板载台之间的异物对基板的平面度的影响变大。此外，由于卡盘的大型化，卡盘的背面与基板载台相接触的面积变大，附着异物的可能性变高，因此要求超出以往的用于抑制异物的附着的技术。例如，在日本专利第4086651号公报中，公开了如下技术：在卡盘与用于保持卡盘的基板载台相接触的状态下，通过使卡盘与基板载台相对移动，来去除(清洁)卡盘的背面与基板载台之间所附着的异物。

然而，在现有技术中，一边相对地按压卡盘与基板载台一边使卡盘与基板载台移动，导致卡盘或基板载台显著磨损。这样的磨损不仅会引起保持基板时的平面度的下降，还成为异物产生的重要因素。

发明内容

本发明提供一种有利于在抑制卡盘和/或载台的磨损的同时，以高平面度保持基板的光刻装置。

根据本发明的一个方面，提供一种在基板上形成图案的光刻装置，所述光刻装置的特征在于包括：卡盘，其包括用于保持所述基板的第一保持面、以及与所述第一保持面相反一侧的背面；载台，其包括用于保持所述卡盘的第二保持面，并能够移动；板，其包括第一清洁面、以及与所述第一清洁面相反一侧的第二清洁面；保持部，其以垂直方向的保持力小于水平方向的保持力的方式来保持所述板或所述卡盘，并能够移动；以及处理部，其通过所述保持部所保持的所述板的所述第二清洁面对所述第一保持面和所述第二保持面中的至少一者进行清洁，并通过所述板的所述第一清洁面对所述保持部所保持的所述卡盘的所述背面进行清洁。

根据本发明的另一方面，提供一种物品的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：使用光刻装置在基板上形成图案的步骤；对通过所述步骤形成有所述图案的所述基板进行处理的步骤；以及由处理后的所述基板制造物品的步骤，其中，所述光刻装置包括：卡盘，其包括用于保持所述基板的第一保持面、以及与所述第一保持面相反一侧的背面；载台，其包括用于保持所述卡盘的第二保持面，并能够移动；板，其包括第一清洁面、以及与所述第一清洁面相反一侧的第二清洁面；保持部，其以垂直方向的保持力小于水平方向的保持力的方式来保持所述板或所述卡盘，并能够移动；以及处理部，其通过所述保持部所保持的所述板的所述第二清洁面对所述第一保持面和所述第二保持面中的至少一者进行清洁，并通过所述板的所述第一清洁面对所述保持部所保持的所述卡盘的所述背面进行清洁。

通过以下参照附图对优选实施方式的描述，本发明的其他目的或其他方面将变得清楚。

附图说明