[发明专利]一种疏水涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种疏水涂层的制备方法，其特征在于，包括：

步骤1、将两种以上不同粒径的粒子及紫外光引发剂，分散到聚合物的溶液中，制成涂布液；所述聚合物的材质，包括：丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、乙烯基树脂、环氧丙烯酸树脂、聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸酯树脂、脂环族环氧树脂、双酚A环氧树脂、乙烯基醚树脂中的一种或几种的组合；

在步骤1中，两种以上不同粒径的粒子，包括：第一粒子(1)和第二粒子(3)；所述第一粒子(1)为小粒径粒子，所述第二粒子为大粒径粒子；其中，所述第一粒子(1)和所述第二粒子(3)的材质，不同；所述第一粒子(1)的粒径为1～200纳米，所述第二粒子(3)的粒径为1微米～200微米；所述第一粒子(1)和所述第二粒子(3)的数量比，为10:1～10000:1；使用了3重或更多组合粒径的粒子，就能形成更多级数的结构，通过粒径较大粒子对粒径较小粒子的保护；

步骤2、将所述涂布液涂布于基体薄膜(2)的表面，经固化处理后，形成高低错落的两级以上微纳结构，作为所需的疏水涂层(5)。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤1中，两种以上不同粒径的粒子与所述紫外光引发剂的质量比，包括：1～10000:1。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一粒子(1)和所述第二粒子(3)的材质，包括：二氧化硅、二氧化锆、二氧化钛、氧化镁、三氧化二铝、碳酸钡、硫酸钡中的一种或几种的组合。

4.根据权利要求1-3之一所述的方法，其特征在于，在步骤1中，

所述紫外线引发剂，包括：KIP150、SR1130、Omnipol TX、Omnipol BP、Polymeric 910、Irgacure 127、Irgacure 754、Irgacure OXE01、Rad-StartN-1414、Irgacure 379、DarocurMBF、Esacure 1001、Esacure 1187、Esacure1064、CD-1012、Uvacure1590、Omnicat550、Omnicat650、EbecrylP36、光引发剂184、光引发剂1173中的一种或多种的组合；

和/或，

所述涂布液中的溶液，包括：水、甲醇、乙醇、乙二醇、苯、甲苯、二甲苯、丙酮、丁酮、乙酸乙酯中的一种或多种的组合。

5.根据权利要求1-3之一所述的方法，其特征在于，

在步骤1中，

所述分散的方式，包括：超声分散和/或搅拌分散；

和/或，

在步骤2中，

所述涂布的方式，包括：辊涂；

和/或，

所述固化处理，包括：

先进行紫外固化处理，再用刻蚀剂进行刻蚀处理，然后进行干燥处理；或者，

先进行干燥处理，再进行紫外固化处理。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，

在步骤1中，

所述分散的方式，包括：超声分散和/或搅拌分散；

和/或，

在步骤2中，

所述涂布的方式，包括：辊涂；

和/或，

所述固化处理，包括：

先进行紫外固化处理，再用刻蚀剂进行刻蚀处理，然后进行干燥处理；或者，

先进行干燥处理，再进行紫外固化处理。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，其中，

所述紫外固化处理的时长为2～120s；

和/或，

所述刻蚀剂，包括：水、甲醇、乙醇、乙二醇、苯、甲苯、二甲苯、丙酮、丁酮、乙酸乙酯、三氟乙酸、硫酸、盐酸、氢氧化钠水溶液中的一种或多种的组合；

和/或，

在所述刻蚀处理之后、或在所述干燥处理之前，还包括清洗处理；

和/或，

所述干燥处理的温度，低于所述涂布液中溶液的沸点。