[发明专利]干涉光刻系统、打印装置和干涉光刻方法

权利要求书

1.一种干涉光刻系统，其特征在于，包括位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和锥透镜组，该位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜沿着光轴传播方向依次设置，该第一透镜与该第二透镜形成一组4F成像系统，该第三透镜与该第四透镜形成另一组4F成像系统，该锥透镜组沿着光轴传播方向可移动地设置于该第三透镜与该第四透镜之间，该位相元件可旋转地设置于该第一透镜的前焦面，该第二透镜的后焦面与该第三透镜的前焦面重合，该锥透镜组包括第一锥透镜和第二锥透镜，该第一锥透镜或该第二锥透镜沿着光轴传播方向可移动地设置于该第三透镜与该第三透镜的后焦面之间。

2.如权利要求1所述的干涉光刻系统，其特征在于，该第一锥透镜的两侧分别平面和凸锥面，该第一锥透镜的凸锥面正对该第二锥透镜，该第二锥透镜的两侧分别平面和凹锥面，该第二锥透镜的凹锥面正对该第一锥透镜的凸锥面。

3.如权利要求2所述的干涉光刻系统，其特征在于，该第一锥透镜的凸锥面与该第二锥透镜的凹锥面互补。

4.如权利要求1所述的干涉光刻系统，其特征在于，该位相元件为分光元件。

5.如权利要求1至4任意一项所述的干涉光刻系统，其特征在于，该干涉光刻系统还包括挡光光阑，该挡光光阑设置于该第一透镜的后焦面。

6.一种打印装置，其特征在于，包括权利要求1至5任意一项所述的干涉光刻系统，该打印装置还包括激光源、分光镜、微缩物镜和平移台，该激光源发出的激光依次经过该干涉光刻系统、分光镜和微缩物镜，并在该平移台上形成干涉曝光场。

7.如权利要求6所述的打印装置，其特征在于，该打印装置还包括光束整形器、半透半反射镜、检测光路、自动聚焦光路和控制器，该光束整形器设置于该光源与 该干涉光刻系统之间，该半透半反射镜设置于该分光镜与该平移台之间，该检测光路设置于该分光镜的透射光路上，该自动聚焦光路设置于该半透半反射镜的反射光路上；该控制器用于控制位相元件旋转、锥透镜组和该平移台移动。

8.一种干涉光刻方法，其特征在于，该干涉光刻方法利用权利要求1至5任意一项所述的干涉光刻系统，该干涉光刻方法的步骤包括：

提供激光，使激光依次经过位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、锥透镜组、第四透镜，并在该第四透镜的后焦面形成干涉条纹，旋转该位相元件的角度，改变干涉条纹的角度，移动该锥透镜组的第一锥透镜或第二锥透镜，改变干涉条纹的周期。

9.如权利要求8所述的干涉光刻方法，其特征在于，在该第一透镜的后焦面设置挡光光阑，利用该挡光光阑对光束进行选择性阻挡。

10.如权利要求9所述的干涉光刻方法，其特征在于，该位相元件为分光元件，利用该位相元件对光束进行分光。