[发明专利]一种新型柱状VCSEL发光阵列、控制系统及控制方法在审

专利信息
申请号: 201810119372.4 申请日: 2018-02-06
公开(公告)号: CN108270148A 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 王彦丁;刘晓萌;杨涛 申请(专利权)人: 中国计量科学研究院
主分类号: H01S5/42 分类号: H01S5/42;H01S5/183;H01S5/024;H01S5/042
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 杨立;吴佳
地址: 100013 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 柱状 发光阵列 点源 基底 控制系统 可编程控制器 发光单元 发散角 冷却循环水 底部电极 发光指令 激光阵列 不重叠 发光点 排布 钎焊 发光 发射
【说明书】:

发明涉及一种新型柱状VCSEL发光阵列、控制系统及控制方法,该新型柱状VCSEL发光阵列包括:柱状基底、多条一维VCSEL点源排列带;多条一维VCSEL点源排列带排布在柱状基底上,且每条一维VCSEL点源排列带相互之间不重叠;柱状基底的底部通过钎焊与多条一维VCSEL点源排列带中每个发光单元的底部电极连接;柱状基底的内部装有冷却循环水。还涉及一中该控制系统,该系统包括:新型柱状VCSEL发光阵列、可编程控制器。还涉及一种控制方法,该控制方法包括:可编程控制器根据发光指令控制新型柱状VCSEL发光阵列中的每条一维VCSEL点源排列带中的每个发光单元进行有序发光。通过本发明实现了发射出的激光阵列在不改变单个发光点发散角的前提下,实现某角度的发散角。

技术领域

本发明属于VCSEL发光阵列领域,尤其涉及一种新型柱状VCSEL发光阵列、控制系统及控制方法。

背景技术

垂直腔面发射激光器(Vertical Cavity Surface Emitting Laser,即VCSEL)是很有发展前景的新型光电器件,也是光通信中革命性的光发射器件。顾名思义,边发射激光器是沿平行于衬底表面、垂直于解理面的方向出射,而面发射激光器其出光方向垂直于衬底表面,现有的VCSEL阵列单元的常见结构由反射镜、有源区和金属接触层组成。其主要结构分为两部分:中心是有源区,它有体异质结和量子阱两种结构。有源区上下是高反射率的半导体多量子阱的分布布拉格反射镜(DBR)。DBR反射镜由光学厚度为λ/4的高折射率层和低折射率层交替生长而成。VCSEL器件常制作成圆形、方形和环形结构,分别在衬底和p-DBR的外表面制作金属接触层,并在p-DBR或n-DBR上制作一个圆形出光窗口,VCSEL可形成高密度二维阵列(可以做成密集排列的二维激光阵列),也就是目前市场上的VCSEL阵列单元。

但是对于一个VCSEL阵列单元,其电极一般采用蒸镀的方式。这一过程使同一面上所有的VCSEL发光单元都具有同一个电极。因此,它们的发光时间是一致的。如果需要实现指定发光单元的发光时间各自独立可控,则需要所有发光单元都具有独立的电极,这样使得大大降低了VCSEL阵列单元的使用效率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是:现有的VCSEL阵列单元都具有同一个电极,导致它们的发光时间是一致的。如果需要实现指定发光单元的发光时间各自独立可控,则需要所有发光单元都具有独立的电极,这样使得大大降低了VCSEL阵列单元的使用效率。

为解决上面的技术问题,本发明提供了一种新型柱状VCSEL发光阵列,该新型柱状VCSEL发光阵列包括:

柱状基底、多条一维VCSEL点源排列带;所述多条一维VCSEL点源排列带排布在所述柱状基底上,且每条一维VCSEL点源排列带相互之间不重叠;

所述柱状基底的底部通过钎焊与所述多条一维VCSEL点源排列带中每个发光单元的底部电极连接;

所述柱状基底的内部装有冷却循环水。

本发明的有益效果:上述的柱状发光阵列是使的VCSEL排列成筒形发光阵列。这样让VCSEL带中相邻两个发光单元向外的发光方向之间具有一定夹角,然后有序地发光。

进一步地,每条一维VCSEL点源排列带均按照相同方向排布在所述柱状基底上。

进一步地,每条一维VCSEL点源排列带中相邻的两个发光单元之间的向外发光方向形成预设夹角。

进一步地,每条一维VCSEL点源排列带中相邻的两个发光单元之间的向外发光方向形成预设夹角。进一步地,在水平面内,每条一维VCSEL点源排列带中的所有发光单元所发出的光均呈放射状分布,且离散覆盖360°角度空间;在竖直方向上,每条一维VCSEL点源排列带中每排发光单元的出光方向呈现相同夹角。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国计量科学研究院,未经中国计量科学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810119372.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top