[发明专利]一种用于物理气相沉淀设备的压环装置在审
申请号: | 201810121482.4 | 申请日: | 2018-02-07 |
公开(公告)号: | CN108179395A | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 张铭泽;张立波;谢青 | 申请(专利权)人: | 张铭泽 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/04;C22C21/00;C22C1/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 276024 山东省临沂市河东区临沂经济开*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 环形本体 固定圆台 压环装置 晶圆 沉淀设备 伸出板 凸出台 顶端连接 环形设置 面积相等 内环边缘 相对滑动 增加部件 紧锁盘 条形板 卡槽 内环 手轮 | ||
1.一种用于物理气相沉淀设备的压环装置,其特征在于,包括环形本体(1),所述环形本体(1)的顶端连接有固定台(4),所述固定台(4)与所述环形本体(1)相连通,且所述固定台(4)的底部设有若干环形设置的凹槽(8),且相邻两个所述凹槽(8)之间围成的面积相等,所述环形本体(1)的内环边缘位置固定连接有伸出板(5),所述伸出板(5)的个数为四个,相邻两个所述伸出板(5)之间形成的弧长相等,且两个相邻所述伸出板(5)之间均设有凸出台(7),其中,所述凸出台(7)和所述伸出板(5)均与所述环形本体(1)的平面平行,所述凸出台(7)的形状为梯形结构,所述环形本体(1)上环设有若干通孔(2),所述通孔(2)贯穿所述环形本体(1)的侧壁,所述环形本体(1)的外围设有环形设置的卡槽(3),所述卡槽(3)内设有与其相匹配设置的紧锁盘(10),所述紧锁盘(10)上设有若干定位紧锁孔(11),所述定位紧锁孔(11)与所述通孔(2)相通,所述定位紧锁孔(11)通过定位销(12)相配合,且所述定位销(12)的一端开设有螺纹孔(13),所述螺纹孔(13)配合有螺栓(14),所述螺栓(14)的一端插入到所述螺纹孔(13)内部,所述螺栓(14)的另一端固定在调节手轮(15)上,且所述螺栓(14)上设有刻度尺(17)。
2.根据权利要求1所述的一种用于物理气相沉淀设备的压环装置,其特征在于,所述固定圆台(4)内设有保护环(6)。
3.根据权利要求1所述的一种用于物理气相沉淀设备的压环装置,其特征在于,所述环形本体(1)的顶端设有若干条形板(9)。
4.根据权利要求1所述的一种用于物理气相沉淀设备的压环装置,其特征在于,所述条形板(9)与所述凹槽(8)滑动连接。
5.根据权利要求1所述的一种用于物理气相沉淀设备的压环装置,其特征在于,所述伸出板(5)、所述凸出台(7)以及所述环形本体(1)之间一体成型。
6.根据权利要求1所述的一种用于物理气相沉淀设备的压环装置,其特征在于,所述螺栓(14)通过盖板(16)与所述环形本体(1)的侧面相连接。
7.根据权利要求1或5所述的一种用于物理气相沉淀设备的压环装置,其特征在于,所述伸出板(5)、所述凸出台(7)以及所述环形本体(1)之间一体成型,具体按照如下工艺制备而得:
1)按照重量百分比计,各原料配比如下:Mn:1.01;Ti:0.71;Si:0.43;Ni:0.16;Cr:0.12;B:0.08;Co:0.07;Zn:0.05;Nb:0.04;Mo:0.005;余量为Al;
2)取Al置于1号坩埚A中,在氩气保护下,以5℃/S的速度升温至750℃,得到熔融体;取Mn、Ti、Si、Ni、Cr、B、Co、Zn、Nb以及Mo置于2号坩埚中,以2℃/S的速度升温至400℃,然后通入氩气进行保护,继续以2℃/S的速度升温至750℃,保温10min;然后将1号坩埚和2号坩埚的物料进行混合,升温至850℃,精炼处理3min;再采用压铸机压铸到模具中,压射压力为70Mpa,压射速度为4m/s,冷却脱模制得。
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