[发明专利]一种硅酸盐基低介微波介质陶瓷及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810125883.7 申请日: 2018-02-06
公开(公告)号: CN108249902B 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 雷文;宋小强;吕文中;汪小红;王晓川;范桂芬;付明 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01B3/12 分类号: H01B3/12;C04B35/16
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 李智;曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅酸盐 基低介 微波 介质 陶瓷 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种硅酸盐基低介微波介质陶瓷,其特征在于,包括主晶相,所述主晶相的化学式是AxBSiyO1+x+2y,其中,A为Ba1-zSrz、Ba1-zCaz或者Sr1-zCaz,B为Cu,0.5≤x<2,1≤y≤4,0≤z≤1,

所述硅酸盐基低介微波介质陶瓷的制备方法,包括:

(1)将CaCO3、SrCO3、BaCO3、CuO及SiO2按化学式AxBSiyO1+x+2y进行配料,得到混合原料,其中,A为Ba1-zSrz、Ba1-zCaz或者Sr1-zCaz,B为Cu,0.5≤x<2,1≤y≤4,0≤z≤1,对混合原料依次进行球磨、干燥、过筛,得到颗粒均匀的粉料;

(2)将粉料在850℃~950℃下预烧3~5小时,得到预烧粉料,对预烧粉料依次进行球磨、干燥、过筛,得到预烧陶瓷粉体,利用粘结剂对预烧陶瓷粉体进行造粒后加压成型,得到陶瓷坯体,将陶瓷坯体在950℃~1125℃下烧结3h~5h,得到微波介质陶瓷。

2.如权利要求1所述的一种硅酸盐基低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述微波介质陶瓷的介电常数为4.2~12。

3.如权利要求2所述的一种硅酸盐基低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述微波介质陶瓷的介电常数为4.2~5.59。

4.如权利要求1或2所述的一种硅酸盐基低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述微波介质陶瓷的品质因数为7729GHz~82071GHz。

5.如权利要求4所述的一种硅酸盐基低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述微波介质陶瓷的品质因数为42719GHz~82071GHz。

6.如权利要求1或2所述的一种硅酸盐基低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述微波介质陶瓷的谐振频率温度系数为-60ppm/℃~-1.2ppm/℃。

7.如权利要求6所述的一种硅酸盐基低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述微波介质陶瓷的谐振频率温度系数为-7ppm/℃~-1.2ppm/℃。

8.如权利要求1所述的一种硅酸盐基低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述球磨的具体实现方式为:

向混合原料和去离子水加入装有锆球的聚酯球磨罐中,在行星式球磨机中球磨3~6小时。

9.如权利要求1所述的一种硅酸盐基低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述干燥的具体实现方式为:

将球磨后的混合原料置于75℃~90℃的鼓风干燥箱中干燥8h~12h。

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