[发明专利]偏振片、偏振片的制作方法及显示装置在审
申请号: | 201810126776.6 | 申请日: | 2018-02-07 |
公开(公告)号: | CN108415113A | 公开(公告)日: | 2018-08-17 |
发明(设计)人: | 秋山孝;一户大吾 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 日本东京港*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏振片 线状部 可见光 显示装置 线状区域 保护膜 方向延伸 最短波长 遮蔽 漏光 入射 制作 平行 外部 延伸 | ||
1.一种偏振片,其特征在于,包括:
沿一个方向延伸的线状部、以及在与所述线状部的延伸方向平行的方向上排列着多个所述线状部的多个线状区域,且
所述线状部具有自外部入射的可见光的最短波长以下的宽度,
所述多个线状区域之间含有保护膜,
所述保护膜遮蔽可见光。
2.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于,
所述线状部的下表面接触第一树脂层,
所述线状部的侧面与上表面接触第二树脂层,
所述第一树脂层的侧面与所述第二树脂层的侧面接触所述保护膜。
3.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于,
所述线状部之间设置有第二树脂层,所述线状部的下表面接触第一树脂层,
所述第一树脂层的侧面与所述第二树脂层的侧面接触所述保护膜。
4.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于,
所述线状部的下表面接触第一树脂层,
所述线状部的侧面与所述第一树脂层的侧面接触所述保护膜。
5.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于,
所述保护膜覆盖所述线状区域。
6.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于,
所述线状部包含导电性金属材料。
7.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于,
所述保护膜是树脂。
8.根据权利要求7所述的偏振片,其特征在于,
所述保护膜是包含液晶的树脂。
9.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于,
所述保护膜包含具有折射率各向异性的材料。
10.一种偏振片的制作方法,其特征在于,包括:
在第一基板上形成树脂层的工序;
在所述树脂层上形成沿一个方向延伸的线状部、以及在与所述线状部的延伸方向平行的方向上排列着多个所述线状部的线状区域的工序;
将所述第一基板与所述线状区域分离的工序;
将多个所述线状区域排列在第二基板上的工序;以及
在排列于所述第二基板上的多个所述线状区域之间形成遮蔽可见光的保护膜的工序。
11.根据权利要求10所述的偏振片的制作方法,其特征在于,
形成所述线状区域的工序包括如下工序:
在所述树脂层上形成金属性导电膜,且
在所述金属性导电膜上涂布光致抗蚀剂,
使用光掩模并利用比所述线状部的宽度更短的波长的光,对光致抗蚀剂进行曝光。
12.根据权利要求10所述的偏振片的制作方法,其特征在于,
形成所述线状区域的工序包括如下工序:
在所述树脂层上形成金属性导电膜,且
在所述金属性导电膜上涂布光致抗蚀剂,
将形成有图案的模具的形成有图案的面按压于所述光致抗蚀剂,
对所述模具照射比所述线状部的宽度更短的波长的光,从而对光致抗蚀剂进行曝光。
13.根据权利要求10所述的偏振片的制作方法,其特征在于,
形成所述保护膜的工序是通过喷墨来进行。
14.根据权利要求10所述的偏振片的制作方法,其特征在于,
形成所述保护膜的工序除了在排列于所述第二基板上的多个所述线状区域之间形成保护膜以外,也在所述线状区域的上表面形成保护膜。
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