[发明专利]一种金属表面研磨抛光剂及制备方法

说明书

本发明涉及金属表面处理技术领域，更具体地说，它涉及一种金属表面研磨抛光剂及制备方法，包括以下重量份数的组分：研磨剂16‑33份、消泡剂1‑2份、碳酸钠0.5‑2份、表面活性剂0.5‑2份、脂肪醇硫酸铵0.5‑2份、表面调光剂0.5‑1.5份、缓蚀剂0.5‑1.5份、悬浮剂0.2‑0.5份、抗凝剂0.2‑0.6份、水60‑70份，使用本发明的金属表面研磨抛光剂对金属表面进行研磨抛光时可以减少中间多次粗磨与中磨环节，提高生产效率。

技术领域

本发明涉及金属表面处理技术领域，更具体地说，它涉及一种金属表面研磨抛光剂及制备方法。

背景技术

抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，降低工件表面的粗糙度，以获得光亮、平整的表面的加工方法。抛光是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行修饰加工的一种表面处理加工工艺。通过对金属工件进行抛光处理后可以得到光滑的金属表面或镜面效果。

手机与数码产品配件在生产加工过程中，工件与加工设备之间的摩擦、工件在运输过程中相互碰撞可能会使金属工件表面产生磨痕、刀痕等，而加工过程中残留在工件上的切削液、助洗剂等会对产品表面形成腐蚀白点，影响产品的美观度，因此，经初步加工后的半成品表面一般较为粗糙，需要对其表面进行进一步的加工处理。

现有技术中，通过对手机与数码产品配件的金属表面进行研磨抛光处理，以除去加工过程中金属表面残留的划痕和腐蚀白点，进而使经研磨抛光处理后的金属表面呈现镜面效果。但是，目前行业上对手机与数码产品配件进行研磨抛光处理时，需要对金属表面进行三次以上的粗磨与中磨，然后再精磨，经过多次研磨后，再进行镜面抛光。研磨过程中由于采用粒径介于2－5um单位研磨粒子，在首道工艺上已经对产品工件造成了深度划痕，必须再由后续多次研磨修复以去除划痕，因此需要较长的研磨时间，工艺繁琐，且抛光效果差，生产效率低，不利于生产。

中国发明专利CN1654585A公开的核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法，相比传统的研磨抛光试剂及工艺，使用上述的研磨剂抛光液对金属表面进行研磨抛光处理，可缩短抛光时间，且抛光效果好，但是，上述研磨剂抛光液在制备过程中不仅需要对试剂进行机械搅拌，还需采用超声分散或球磨分散的方式对试剂进行分散，制备方法较为繁琐。

因此需要提出一种新的方案来解决这个问题。

发明内容

针对上述现有技术存在的不足，本发明的第一目的在于提供一种金属表面研磨抛光剂，具有抛光效果好，且抛光效率高的优点。

本发明的第一目的是通过以下技术方案得以实现的：一种金属表面研磨抛光剂，研磨剂16-33份、消泡剂1-2份、碳酸钠0.5-2份、表面活性剂0.5-2份、脂肪醇硫酸铵0.5-2份、表面调光剂0.5-1.5份、缓蚀剂0.5-1.5份、悬浮剂0.2-0.5份、抗凝剂0.2-0.6份、水60-70份。

通过采用上述技术方案，研磨剂是一种含有摩擦材料的研磨用品，通过磨粒的摩擦作用产生的机械力，将产品表面经化学反应后形成的钝化膜去除，达到对产品表面进行研磨和抛光的目的，从而使产品表面平整。使用时磨粒呈自由状态。经试验发现，当研磨剂所占的重量份数为26-28份时，磨料的浓度适宜，研磨抛光效率高，当所占的重量份数过高时，磨料的浓度过大，试剂的粘性过大，流动性降低，影响金属产品表面的氧化层的有效形成，导致抛光效率降低；当研磨剂所占的重量份数过低时，磨料的数量过少，抛光效率也会随之降低，抛光效果差。