[发明专利]用于确定容器中的介质的边界水平的填充水平开关和方法

权利要求书

1.用于确定容器（4）中的介质（3）的边界水平的填充水平开关（1），所述填充水平开关带有至少一个传感器单元（5），其中所述传感器单元（5）具有至少一个天线单元（6）、用于保护传感器单元（5）和用于连接到容器壁（8）上的至少一个过程窗口（7）、至少一个电子器件单元（9）和至少一个传感器壳体（10），其中所述天线单元（6）具有用于发送第一电磁发送信号的至少一个第一辐射元件（11a）、至少一个供应线路（12）、至少一个具有参考电势的参考面（13）和至少一个介电层（14），其中所述介电层（14）布置在参考面（13）与辐射元件（11a）之间，

其特征在于，

所述天线单元（6）如此设计，使得辐射元件（11a）在运行时由供应线路（12）通过孔径耦合供应，其中所述参考面（13）具有作为针对电磁信号的通道的至少一个开口（16），并且第一辐射元件（11a）如此布置，使得其在运行时与介质（3）直接接触。

2.根据权利要求1所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述辐射元件（11a）设计为平坦的天线面（11a）或设计为由至少两个平坦的天线面（11a）构成的阵列。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的填充水平开关（1），其特征在于，在参考面（13）与辐射元件（11a）之间布置的介电层（14）设计为过程窗口（7）。

4.根据权利要求3所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述过程窗口（7）对于电磁发送信号的频率来说是可穿透的，并且/或者所述过程窗口（7）至少部分由塑料、玻璃或陶瓷构成。

5.根据权利要求1或2所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述传感器壳体（10）的一部分设计为参考面（13），其中所述传感器壳体（10）在参考面（13）的区域中具有作为针对电磁信号的通道的至少一个开口（16）。

6.根据权利要求1或2所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述传感器壳体（10）具有限定的地电势。

7.根据权利要求3所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述天线单元（6）具有至少一个第二辐射元件（11b），用以发送第二电磁发送信号，其中第一和第二辐射元件（11a、11b）没有布置在一个平面中。

8.根据权利要求7所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述第二辐射元件（11b）平行于第一辐射元件（11a）布置。

9.根据权利要求7或8中任一项所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述第二辐射元件（11b）布置在过程窗口（7）与参考面（13）之间。

10.根据权利要求7或8所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述第一辐射元件（11a）和第二辐射元件（11b）具有不同的大小和/或不同的形状。

11.根据权利要求1 或2所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述参考面（13）的开口（16）缝隙形地或哑铃形地或T形地设计。

12.根据权利要求1或2所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述供应线路（12）T形地或哑铃形地设计。

13.根据权利要求7或8所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述天线单元（6）如此设计，使得第一辐射元件（11a）和第二辐射元件（11b）通过孔径耦合供应。

14.根据权利要求4所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述过程窗口（7）至少部分由PEEK或PTFE构成。

15.根据权利要求7所述的填充水平开关（1），其特征在于，所述天线单元（6）具有至少一个平坦的第二天线面（11b）。