[发明专利]一种紫外掩膜版及其制造方法

权利要求书

1.一种紫外掩膜版的制造方法，所述紫外掩膜版用于在彩色滤光板胶框固化时遮挡显示区，其特征在于，所述制造方法包括：

在透明基板上涂布光阻剂，用像素掩膜图案光罩对光阻剂进行光刻，生成第一光阻膜；

再次在所述透明基板上涂布所述光阻剂，用所述像素掩膜图案光罩对透明光阻剂进行光刻，生成第二光阻膜；

再次在所述透明基板上涂布所述光阻剂，用所述像素掩膜图案光罩对所述光阻剂进行光刻，生成第三光阻膜；

从而在所述透明基板上生成所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜，形成用以覆盖显示区的紫外掩膜版；

其中，所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜分别对应显示区红色滤光位置、绿色滤光位置、蓝色滤光位置中的一种。

2.如权利要求1所述的紫外掩膜版的制造方法，其特征在于，所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜分别由第一像素掩膜图案光罩、第二像素掩膜图案光罩、第三像素掩膜图案光罩光刻生成，第一像素掩膜图案光罩、第二像素掩膜图案光罩、第三像素掩膜图案光罩为红色像素掩膜图案光罩、绿色像素掩膜图案光罩、蓝色像素掩膜图案光罩中的一种；

或者，所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜由一种像素掩膜图案光罩通过在各次光刻时变换不同的位置来生成，所述像素掩膜图案光罩为所述红色像素掩膜图案光罩、所述绿色像素掩膜图案光罩、所述蓝色像素掩膜图案光罩中的一种。

3.如权利要求1所述的紫外掩膜版的制造方法，其特征在于，所述光刻包括：对所述光阻进行曝光显影；选择性蚀刻部分所述光阻剂，使所述光阻剂圆形化；固化图形化的所述光阻剂。

4.如权利要求1所述的紫外掩膜版的制造方法，其特征在于，所述像素掩膜图案光罩设有对位标识，从而在所述透明基板上生成所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜时，同时生成用于在彩色滤光板胶固化时与彩色滤光板基板对位的对位标记。

5.如权利要求1至4中任一所述的紫外掩膜版的制造方法，其特征在于，生成所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜后，还包括在生成所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜上镀设保护膜。

6.一种紫外掩膜版，用于在彩色滤光版胶框固化时遮挡显示区，其特征在于，包括透明基板以及设于透明基板上覆盖显示区的第一光阻膜、第二光阻膜、第三光阻膜，第一光阻膜、第二光阻膜、第三光阻膜是通过三次涂布、光刻制成，且光刻采用像素掩膜图案光罩。

7.如权利要求6所述的紫外掩膜版，其特征在于，所述像素掩膜图案光罩包括红色像素掩膜图案光罩、绿色像素掩膜图案光罩、蓝色像素掩膜图案光罩，分别形成对应显示区红色滤光位置、绿色滤光位置、蓝色滤光位置的光阻膜；或所述像素掩膜图案光罩为所述红色像素掩膜图案光罩、所述绿色像素掩膜图案光罩、所述蓝色像素掩膜图案光罩中的一种，通过在各次光刻时变换不同的位置，来分别形成对应显示区红色滤光位置、绿色滤光位置、蓝色滤光位置的光阻膜。

8.如权利要求6所述的紫外掩膜版，其特征在于，所述紫外掩膜版上设有用于在彩色滤光版胶框固化时与彩色滤光版基板对位的对位标记。

9.如权利要求6或7或8所述的紫外掩膜版，其特征在于，所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜上镀设有所述保护膜。