[发明专利]一种多孔石墨相氮化碳纳米片粉末的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810148614.2 申请日: 2018-02-13
公开(公告)号: CN108313991B 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 孙少东;梁淑华;苟旭峰;崔杰;杨卿 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: C01B21/082 分类号: C01B21/082;B01J27/24
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 胡燕恒
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 多孔 石墨 氮化 纳米 粉末 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种多孔石墨相氮化碳纳米片粉末的制备方法,以碳氮前驱体、碳酸饮料和水为原材料,采用碳酸饮料辅助水热处理常规碳氮前驱体制备出改性前驱体;然后将上述改性前驱体进行高温煅烧,即得到多孔g‑C3N4纳米片粉末。本发明利用常见的碳酸饮料辅助水热改性碳氮前驱体,得到了具有纳米片结构的多孔g‑C3N4粉末,具有工序简单、原料来源广泛、成本低廉、实验操作性强、对设备无特殊要求的优点,适合大规模工业化生产。得到的多孔g‑C3N4纳米片粉末具有明显多孔的二维结构,单层完整且孔隙分布均匀,同时改善了传统体相g‑C3N4无孔、易团聚的结构缺点;且展现出良好的光催化性能。

技术领域

本发明属于光催化材料制备技术领域,具体涉及一种多孔石墨相氮化碳纳米片粉末的制备方法。

背景技术

石墨相氮化碳(g-C3N4)作为一种类石墨烯结构的二维半导体材料,在光解水产氢、光降解有机污染物和光还原二氧化碳领域显示出了极大的应用潜力。常规的体相g-C3N4虽然具有一定的光催化性能,但是由于其存在能带结构缺陷、比表面积小、易团聚、形貌不规整的缺点,严重制约了其在光催化领域的应用。

已有文献表明:“掺杂”和“形貌调控”均可以有效提高单一材料的物理化学性能,从而获得高效的使用性能。“掺杂”策略虽然可以通过引入异质元素改变原有材料能级结构来提高材料的性能,但是相关文献报道表明g-C3N4的元素掺杂通常存在所涉及的合成工艺复杂、掺杂试剂与前驱体配比不易控制的缺点,从而使其大规模制备受到了严重的制约。值得注意的是,“形貌调控”对于提高g-C3N4的光催化性能至关重要。特别是,多孔结构的g-C3N4不仅可以有效提高材料的比表面积进而增加反应活性位点,而且不同形态的多孔结构亦可以调控材料的能带结构,优化光还原和光氧化的反应电势,从而使材料的光催化性能得到有效改善。然而,目前多孔材料的制备通常涉及一些用于造孔的有机试剂,增加成本和环境负担,所以开发一种工艺流程简单、易操作、原料来源广泛的多孔g-C3N4的制备新工艺受到了人们的广泛青睐。

因此,本发明提供了一种前驱体改性制备多孔g-C3N4策略,首先选择常规碳氮前驱体、碳酸饮料和水作原材料,采用碳酸饮料辅助水热处理常规碳氮前驱体制备出改性前驱体;然后将上述改性前驱体进行高温煅烧,即可获得多孔g-C3N4纳米片粉末。查阅相关文献,尚未见利用碳酸饮料辅助水热法制备多孔g-C3N4粉末的报道。

发明内容

本发明的目的是提供一种多孔石墨相氮化碳纳米片粉末的制备方法,解决了现有多孔g-C3N4制备工艺过程复杂、成本高的问题。

本发明所采用的技术方案是,一种多孔石墨相氮化碳纳米片粉末的制备方法,具体按照以下步骤实施:

步骤1,改性前驱体的制备:

将碳氮前驱体、碳酸饮料、去离子水加入反应釜中,搅拌均匀,放入烘箱中进行水热反应,得到固液混合物;然后对固液混合物进行洗涤、干燥,得到改性前驱体;

步骤2,多孔g-C3N4纳米片粉末的制备:

对步骤1得到的改性前驱体进行高温煅烧,即得到多孔g-C3N4纳米片粉末。

本发明特点还在于,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安理工大学,未经西安理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810148614.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top